Стр. 43
Страницы:
Стр.1 |
Стр.2 |
Стр.3 |
Стр.4 |
Стр.5 |
Стр.6 |
Стр.7 |
Стр.8 |
Стр.9 |
Стр.10 |
Стр.11 |
Стр.12 |
Стр.13 |
Стр.14 |
Стр.15 |
Стр.16 |
Стр.17 |
Стр.18 |
Стр.19 |
Стр.20 |
Стр.21 |
Стр.22 |
Стр.23 |
Стр.24 |
Стр.25 |
Стр.26 |
Стр.27 |
Стр.28 |
Стр.29 |
Стр.30 |
Стр.31 |
Стр.32 |
Стр.33 |
Стр.34 |
Стр.35 |
Стр.36 |
Стр.37 |
Стр.38 |
Стр.39 |
Стр.40 |
Стр.41 |
Стр.42 |
Стр.43 |
Стр.44 |
Стр.45 |
Стр.46 |
Стр.47 |
Стр.48 |
Стр.49 |
Стр.50 |
Стр.51 |
Стр.52 |
Стр.53 |
Стр.54 |
Стр.55 |
Стр.56 |
Стр.57 |
Стр.58
измеренные при температуре
(296+-2) К [(23+-2)°С] и
относительной влажности (50+-5)%.
2. Удельная прочность при
растяжении - предел прочности
при растяжении, выраженный в
паскалях (Н/кв.м), деленный на
удельный вес в Н/куб.м,
измеренные при температуре
(296+-2) К [(23+-2)°С] и
относительной влажности (50+-5)%.
Примечания:
По пункту 1.1.1 не
контролируются:
1. Полностью или частично
изготовленные конструкции,
специально разработанные для
следующего только гражданского
использования:
а) в спортивных товарах;
б) в автомобильной
промышленности;
в) в станкостроительной
промышленности;
г) в медицинских целях.
2. Элементы конструкций из
композиционных материалов
объемной или слоистой структуры
с размерами, не превышающими
1 кв.м, изготовленные из
пропитанных эпоксидной смолой
углеродных волокнистых или
нитевидных материалов, для
ремонта летательных аппаратов.
1.2. Испытательное, контрольное и
производственное оборудование -
нет
1.3. Материалы
1.3.1. Материалы, специально
разработанные для поглощения
электромагнитных волн, или
полимеры, обладающие собственной
проводимостью:
1.3.1.1. Материалы для поглощения 3815 19;
электромагнитных волн в области 3910 00 000 0
частот от 2 х 10**8 Гц
до 3 х 10**12 Гц
Примечания:
1. По пункту 1.3.1.1 не
контролируются:
а) поглотители войлочного типа,
изготовленные из натуральных и
синтетических волокон, содержащие
немагнитный наполнитель;
б) поглотители, не имеющие
магнитных потерь, рабочая
поверхность которых не является
плоской, включая пирамиды,
конусы, клинья и спиралевидные
поверхности;
в) плоские поглотители,
обладающие всеми следующими
признаками:
1) изготовленные из любых
следующих материалов:
вспененных полимерных материалов
(гибких или негибких) с
углеродным наполнением или
органических материалов, включая
связующие, обеспечивающих более
5% отражения по сравнению
с металлом в диапазоне волн,
отличающихся от средней частоты
падающей энергии более чем на
+-15%, и не способных выдерживать
температуры, превышающие 450 К
(177°С); или
керамических материалов,
обеспечивающих более 20%
отражения по сравнению с металлом
в диапазоне волн, отличающихся
от средней частоты падающей
энергии более чем на +-15%, и не
способных выдерживать
температуры, превышающие 800 К
(527°С);
2) прочностью при растяжении
менее 7 х 10**6 Н/кв.м; и
3) прочностью при сжатии менее
14 х 10**6 Н/кв.м;
г) плоские поглотители,
выполненные из спеченного
феррита, имеющие:
удельный вес более 4,4 г/куб.см;
и
максимальную рабочую температуру
548 К (275°С).
2. Магнитные материалы для
обеспечения поглощения волн,
указанные в примечании 1 к пункту
1.3.1.1, не освобождаются от
контроля, если они содержатся
в красках.
Техническое примечание.
Образцы для проведения испытаний
на поглощение, приведенные
в подпункте 1 пункта "в"
примечания 1 к пункту 1.3.1.1,
должны иметь форму квадрата со
стороной не менее пяти длин волн
средней частоты и располагаться
в дальней зоне излучающего
элемента.
1.3.1.2. Материалы для поглощения волн на 3815 19;
частотах, превышающих 3910 00 000 0
1,5 х 10**14 Гц, но ниже, чем
3,7 х 10**14 Гц, и непрозрачные
для видимого света
1.3.1.3. Электропроводящие полимерные
материалы с объемной
электропроводностью более
10000 См/м (Сименс/м) или
поверхностным удельным
сопротивлением менее 100 Ом/кв.м,
полученные на основе любого
из следующих полимеров:
1.3.1.3.1. Полианилина 3909 30 000 0
1.3.1.3.2. Полипиррола 3911 90 990 0
1.3.1.3.3. Политиофена 3911 90 990 0
1.3.1.3.4. Полифенилен-винилена; или 3911 90 990 0
1.3.1.3.5. Политиенилен-винилена 3919 90 900 0
Техническое примечание.
Объемная электропроводность и
поверхностное удельное
сопротивление должны определяться
в соответствии со стандартной
методикой ASTM D-257 или ее
национальным эквивалентом.
1.3.2. Исходные керамические материалы,
некомпозиционные керамические
материалы, композиционные
материалы с керамической матрицей
и соответствующие прекурсоры:
1.3.2.1. Композиционные материалы типа 2849;
керамика-керамика со стеклянной 2850 00;
или оксидной матрицей, 8803 90 200 0;
армированной волокнами, имеющими 8803 90 300 0;
все следующие характеристики: 8803 90 980 0;
а) изготовлены из любых 9306 90
нижеследующих материалов:
Si-N;
Si-C;
Si-Al-O-N; или
Si-O-N; и
б) имеют удельную прочность при
растяжении, превышающую
12,7 х 10**3 м
1.3.2.2. Композиционные материалы типа 2849 20 000 0;
керамика-керамика с непрерывной 2849 90 100 0;
металлической фазой или без нее, 2850 00 200 0;
включающие частицы, нитевидные 8113 00 200 0;
кристаллы или волокна, в которых 8113 00 900 0
матрица образована из карбидов
или нитридов кремния, циркония
или бора
1.3.3. Нитевидные или волокнистые
материалы, которые могут быть
использованы в композиционных
материалах объемной или слоистой
структуры с органической,
металлической или углеродной
матрицей:
1.3.3.1. Неорганические волокнистые или 8101 96 000 0;
нитевидные материалы, имеющие 8101 99 000 0;
все следующие характеристики: 8108 90 300 0;
а) удельный модуль упругости, 8108 90 900 0
превышающий 2,54 х 10**6 м; и
б) точку плавления, размягчения,
разложения или сублимации в
инертной среде, превышающую
температуру 1922 К (1649°С)
Примечание. По пункту 1.3.3.1
не контролируются:
а) дискретные, многофазные,
поликристаллические волокна
оксида алюминия в виде рубленых
волокон или беспорядочно
уложенных в матах, содержащие 3%
или более (по весу) диоксида
кремния и имеющие удельный
модуль упругости менее
10 х 10**6 м;
б) молибденовые волокна и волокна
из молибденовых сплавов;
в) волокна бора;
г) дискретные керамические
волокна с температурой плавления,
размягчения, разложения или
сублимации в инертной среде выше
2043 К (1770°С).
1.3.3.2. Волокнистые или нитевидные
материалы:
1.3.3.2.1. Состоящие из любого из
нижеследующих материалов:
1.3.3.2.1.1. Полиэфиримидов, контролируемых 5402 10 100 0;
по пунктам 1.3.8.1.1-1.3.8.1.4 5402 20 000 0;
раздела 1; или 5402 49 990 0;
5404 10 900 0;
5501 10 000 1;
5501 20 000 0;
5501 90 900 0;
5503 10 110 0;
5503 20 000 0;
5503 90 900 0
1.3.3.2.1.2. Материалов, контролируемых по 5402 20 000 0;
пунктам 1.3.8.2-1.3.8.6 раздела 5402 49 990 0;
1; или 5404 10 900 0;
5501 20 000 0;
5501 90 900 0;
5503 20 000 0;
5503 90 900 0
1.3.3.2.2. Изготовленные из материалов,
контролируемых по пункту
1.3.3.2.1.1 или 1.3.3.2.1.2, и
связанные с волокнами других
типов, контролируемых по пунктам
1.3.10.1-1.3.10.3 раздела 1
1.3.4. Следующие материалы:
1.3.4.1. Плутоний в любой форме с 2844 20 510 0;
содержанием изотопа плутония-238 2844 20 590 0;
более 50% (по весу) 2844 20 990 0
Примечание. По пункту 1.3.4.1 не
контролируются:
а) поставки, содержащие 1 г
плутония или менее;
б) поставки, содержащие три
эффективных грамма плутония или
менее при использовании в
качестве чувствительного элемента
в приборах.
1.3.4.2. Предварительно обогащенный 2844 40 200 0;
нептуний-237 в любой форме 2844 40 300 0
Примечание. По пункту 1.3.4.2 не
контролируются поставки,
содержащие не более 1 г
нептуния-237.
Техническое примечание.
Материалы, указанные в пункте
1.3.4, обычно используются для
ядерных источников тепла.
1.4. Программное обеспечение
1.4.1. Программное обеспечение для
разработки композиционных
материалов с объемной или
слоистой структурой на основе
органических, металлических или
углеродных матриц, указанных в
настоящем разделе
1.5. Технология
1.5.1. Технологии в соответствии с общим
технологическим примечанием для
разработки или производства
оборудования или материалов,
контролируемых по пункту 1.1.1
или 1.3
1.5.2. Иные нижеследующие технологии:
1.5.2.1. Технологии сборки, эксплуатации
или восстановления материалов,
контролируемых по пункту 1.3.1
1.5.2.2. Технологии восстановления
конструкций из композиционных
материалов объемной или слоистой
структуры, контролируемых по
пункту 1.1.1, или материалов,
контролируемых по пункту 1.3.2.1
или 1.3.2.2
Примечание. По пункту 1.5.2.2 не
контролируются технологии ремонта
элементов конструкций гражданских
летательных аппаратов с
использованием углеродных
волокнистых или нитевидных
материалов и эпоксидных смол,
содержащиеся в руководствах
производителя летательных
аппаратов.
КАТЕГОРИЯ 2. ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2.1. Системы, оборудование и
компоненты - нет
2.2. Испытательное, контрольное и
производственное оборудование -
нет
2.3. Материалы - нет
2.4. Программное обеспечение
2.4.1. Программное обеспечение иное, чем
контролируемое по пункту 2.4.2
раздела 1, специально
разработанное для разработки или
производства следующего
оборудования:
а) токарных станков, имеющих все
следующие характеристики:
точность позиционирования вдоль
любой линейной оси со всеми
доступными компенсациями, равную
3,6 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом; и
две или более оси, которые могут
быть совместно скоординированы
для контурного управления;
б) фрезерных станков, имеющих
любую из следующих характеристик:
1) имеющих все следующие
характеристики:
точность позиционирования вдоль
любой линейной оси со всеми
доступными компенсациями, равную
3,6 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом; и
три линейные оси плюс одну ось
вращения, которые могут быть
совместно скоординированы для
контурного управления;
2) пять или более осей, которые
могут быть совместно
скоординированы вдоль любой
линейной оси для контурного
управления и имеющие точность
позиционирования со всеми
доступными компенсациями, равную
3,6 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом;
или
3) для координатно-расточных
станков точность позиционирования
вдоль любой линейной оси со всеми
доступными компенсациями, равную
3 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом;
в) станков для электроискровой
обработки (СЭО) беспроволочного
типа, имеющих две или более оси
вращения, которые могут быть
совместно скоординированы для
контурного управления;
г) сверлильных станков для
сверления глубоких отверстий или
токарных станков,
модифицированных для сверления
глубоких отверстий,
обеспечивающих максимальную
глубину сверления отверстий
5000 мм или более, и специально
разработанных для них
компонентов;
д) станков с числовым программным
управлением или станков с ручным
управлением и специально
предназначенных для них
компонентов, оборудования для
контроля и приспособлений,
специально разработанных для
шевингования, финишной обработки,
шлифования или хонингования
закаленных (Rc = 40 или более)
прямозубых цилиндрических,
косозубых и шевронных шестерен
диаметром делительной окружности
более 1250 мм и шириной зубчатого
венца, равной 15% от диаметра
делительной окружности или более,
с качеством после финишной
обработки по классу 3 в
соответствии с международным
стандартом ISO 1328
2.5. Технология
2.5.1. Технологии в соответствии с общим
технологическим примечанием для
разработки программного
обеспечения, контролируемого по
пункту 2.4, или разработки либо
производства следующего
оборудования:
а) токарных станков, имеющих все
следующие характеристики:
точность позиционирования вдоль
любой линейной оси со всеми
доступными компенсациями, равную
3,6 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом; и
две или более оси, которые могут
быть совместно скоординированы
для контурного управления;
б) фрезерных станков, имеющих
любую из следующих характеристик:
1) имеющих все следующие
характеристики:
точность позиционирования вдоль
любой линейной оси со всеми
доступными компенсациями, равную
3,6 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом; и
три линейные оси плюс одну ось
вращения, которые могут быть
совместно скоординированы для
контурного управления;
2) пять или более осей, которые
могут быть совместно
скоординированы вдоль любой
линейной оси для контурного
управления и имеющие точность
позиционирования со всеми
доступными компенсациями, равную
3,6 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом;
или
3) для координатно-расточных
станков точность позиционирования
вдоль любой линейной оси со всеми
доступными компенсациями, равную
3 мкм или менее (лучше) в
соответствии с международным
стандартом ISO 230/2 (1997) или
его национальным эквивалентом;
в) станков для электроискровой
обработки (СЭО) беспроволочного
типа, имеющих две или более оси
вращения, которые могут быть
совместно скоординированы для
Страницы:
Стр.1 |
Стр.2 |
Стр.3 |
Стр.4 |
Стр.5 |
Стр.6 |
Стр.7 |
Стр.8 |
Стр.9 |
Стр.10 |
Стр.11 |
Стр.12 |
Стр.13 |
Стр.14 |
Стр.15 |
Стр.16 |
Стр.17 |
Стр.18 |
Стр.19 |
Стр.20 |
Стр.21 |
Стр.22 |
Стр.23 |
Стр.24 |
Стр.25 |
Стр.26 |
Стр.27 |
Стр.28 |
Стр.29 |
Стр.30 |
Стр.31 |
Стр.32 |
Стр.33 |
Стр.34 |
Стр.35 |
Стр.36 |
Стр.37 |
Стр.38 |
Стр.39 |
Стр.40 |
Стр.41 |
Стр.42 |
Стр.43 |
Стр.44 |
Стр.45 |
Стр.46 |
Стр.47 |
Стр.48 |
Стр.49 |
Стр.50 |
Стр.51 |
Стр.52 |
Стр.53 |
Стр.54 |
Стр.55 |
Стр.56 |
Стр.57 |
Стр.58
|
