Стр. 51
Страницы:
Стр.1 |
Стр.2 |
Стр.3 |
Стр.4 |
Стр.5 |
Стр.6 |
Стр.7 |
Стр.8 |
Стр.9 |
Стр.10 |
Стр.11 |
Стр.12 |
Стр.13 |
Стр.14 |
Стр.15 |
Стр.16 |
Стр.17 |
Стр.18 |
Стр.19 |
Стр.20 |
Стр.21 |
Стр.22 |
Стр.23 |
Стр.24 |
Стр.25 |
Стр.26 |
Стр.27 |
Стр.28 |
Стр.29 |
Стр.30 |
Стр.31 |
Стр.32 |
Стр.33 |
Стр.34 |
Стр.35 |
Стр.36 |
Стр.37 |
Стр.38 |
Стр.39 |
Стр.40 |
Стр.41 |
Стр.42 |
Стр.43 |
Стр.44 |
Стр.45 |
Стр.46 |
Стр.47 |
Стр.48 |
Стр.49 |
Стр.50 |
Стр.51 |
Стр.52 |
Стр.53 |
Стр.54 |
Стр.55 |
Стр.56
контроль во время плавки и
отливки;
11.5.1.3. Технологии, предназначенные для
разработки или производства
слитков алюминий-литиевых
сплавов, такие, как:
11.5.1.3.1. Технологии, предназначенные для
разработки или применения
процессов плавки, легирования и
литья слитков, позволяющих
преодолеть химическую активность
таких сплавов;
11.5.1.3.2. Технологии, предназначенные для
разработки или применения
процессов термомеханической
обработки, необходимых для
получения требуемых механических
свойств сплавов
11.5.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения композиционных
материалов типа "Стекларм" на
основе стекломатрицы,
армированной высокопрочными
волокнами, предназначенные для
изготовления деталей силовых
установок (узлов трения),
работающих в агрессивных средах
при повышенных температурах (500°С
или более)
11.5.3. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения композиционных
материалов на основе стекла,
армированного непрерывными
высокопрочными волокнами с
плотностью 1900 кг/куб.м или
более, прочностью 150 МПА или
более и температурой эксплуатации
500°С или более
11.5.4. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения композиционных
материалов на основе стекла, в
системе SiO2-Al2O3-B2O3,
армированного жгутами из
непрерывных высокопрочных
волокон, с плотностью
1730кг/куб.м или более и модулем
упругости 230 ГПа или более
11.5.5. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения сплавов на основе
Fe-Cr-Al, работающих длительное
время в окислительной среде при
температуре 1400°С или более,
способных к экструдированию и
прокатыванию
Категория 12. Обработка материалов
12.1. Системы, оборудование и
компоненты
12.1.1. Высокоточные воздушные 8483 30 590 0;
подшипниковые системы и их 8483 90 300 0
компоненты
12.2. Испытательное, контрольное и
производственное оборудование
12.2.1. Оборудование больших вакуумных
систем:
12.2.1.1. Системы с криогенными насосами 8414 10 500 0
(системы, в которых для
достижения вакуума статически или
динамически обеспечивается
циркуляция охлажденного или
сжиженного газа путем понижения
температуры среды), рассчитанные
на эксплуатацию при температурах
ниже 200°С, измеренных при
атмосферном давлении;
12.2.1.2. Системы управления на базе 9032 20 909 0;
компьютера для управления 9032 89 900 0
процессом вакуумизации;
12.2.1.3. Высоковакуумные системы, в которых 8419 89 959 0
объем камеры более одного литра
и которые можно откачивать до
давления менее 1,Зх10 мкПа при
том, что температура в камере
поддерживается выше 800°С
12.2.2. Оборудование высококачественной
сварки:
12.2.2.1. Датчики и системы управления для
сварочного оборудования, такие,
как:
12.2.2.1.1. микропроцессоры и оборудование с 8542 19 550;
цифровым управлением, которые 9031 80 590 0;
прослеживают сварной шов в 9032 89 900 0
реальном масштабе времени,
контролируя его геометрию;
12.2.2.1.2. микропроцессоры и оборудование с 8542 19 550;
цифровым управлением, которые в 9031 80 590 0;
реальном масштабе времени 9032 89 900 0
контролируют и корректируют
параметры сварки в зависимости от
изменений сварного шва или
состояния сварочной дуги
12.3. Материалы - нет
12.4. Программное обеспечение - нет
12.5. Технологии
12.5.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения высокоточных воздушных
подшипниковых систем и их
компонентов
12.5.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения глубоковакуумных
процессов:
12.5.2.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения больших вакуумных
систем, таких, как:
12.5.2.1.1. систем с криогенными насосами
(систем, в которых для достижения
вакуума статически или
динамически обеспечивается
циркуляция охлажденного или
сжиженного газа путем понижения
температуры среды), рассчитанных
на эксплуатацию при температурах
ниже 200°С, измеренных при
атмосферном давлении;
12.5.2.1.2. систем управления на базе ЭВМ для
управления процессом
вакуумизации;
12.5.2.1.3. высоковакуумных систем, в которых
объем камеры более одного литра и
которые можно откачивать до
давления менее 1,3х10 мкПа при
том, что температура в камере
поддерживается выше 800°С
12.5.3. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения высококачественной
сварки
12.5.3.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения датчиков и систем
управления для сварочного
оборудования, такого, как:
12.5.3.1.1. микропроцессоров и оборудования с
цифровым управлением, которые
прослеживают сварной шов в
реальном масштабе времени,
контролируя его геометрию;
12.5.3.1.2. микропроцессоров и оборудования с
цифровым управлением, которые в
реальном масштабе времени
контролируют и корректируют
параметры сварки в зависимости от
изменений сварного шва или
состояния сварочной дуги
12.5.4. Технологии, предназначенные для
разработки или производства
проволоки, наплавочного материала
и фитильных или покрытых
электродов для сварки изделий из
титана, алюминия и высокопрочной
стали, а также составление
материалов для покрытий и
сердцевин электродов
12.5.5. Технологии, предназначенные для
разработки или производства
металлических конструкций и
компонентов методом
электроннолучевой сварки с
использованием машинного
управления технологическим
процессом
Категория 13. Электроника
13.1. Системы, оборудование и
компоненты - нет
13.2. Испытательное, контрольное и
производственное оборудование -
нет
13.3. Материалы - нет
13.4. Программное обеспечение
13.4.1. Программное обеспечение,
разработанное для анализа
нелинейного взаимодействия пакета
волн
13.4.2. Программное обеспечение,
предназначенное для разработки и
производства электрических и
механических элементов антенн, а
также для анализа тепловых
деформаций конструкции антенны
13.4.3. Программное обеспечение,
предназначенное для разработки,
производства или применения
космических элементов спутниковой
системы связи и их элементов,
таких, как:
13.4.3.1. развертываемых антенн, а также
механизмов их развертывания,
включая контроль поверхности
антенн при их изготовлении и
динамический контроль развернутых
антенн;
13.4.3.2. антенных решеток с фиксированной
апертурой, включая контроль их
поверхности при производстве;
13.4.3.3. антенных решеток, состоящих из
линейки рупорных излучателей,
формирующих диаграмму
направленности путем изменения
фазы сигнала и установки нуля
диаграммы направленности на
источник помех;
13.4.3.4. микрополосковых фазированных
антенных решеток, включая
компоненты для формирования нуля
диаграммы в направлении на
источник помех;
13.4.3.5. трактов передачи энергии от
передатчика к антенне,
обеспечивающих хорошее их
согласование;
13.4.3.6. антенн и компонентов на основе
композиционных материалов для
достижения требуемых
характеристик прочности и
жесткости при минимальном весе,
стабильности длительной их работы
в широком диапазоне температур
13.4.4. Программное обеспечение,
предназначенное для разработки,
производства или применения
полосовых фильтров с полосой
пропускания менее 0,1% или более
10% среднего значения частоты
13.4.5. Программное обеспечение,
предназначенное для разработки
или производства аппаратуры,
указанной в пунктах
13.5.5.1-13.5.5.5
13.5. Технологии
13.5.1. Технологии, связанные с
разработкой, производством или
применением вакуумной
электроники, акустоэлектроники и
сегнетоэлектрики
13.5.1.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения оборудования с
цифровым управлением,
позволяющего осуществлять
автоматическую ориентацию
рентгеновского луча и коррекцию
углового положения кварцевых
кристаллов с компенсацией
механических напряжений,
вращающихся по двум осям при
величине погрешности 10 угловых
секунд или менее, которая
поддерживается одновременно для
двух осей вращения;
13.5.1.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения оборудования для
равномерного покрытия поверхности
мембран, электродов и
волоконно-оптических элементов
монослоями биополимеров или
биополимерных композиций
13.5.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения криогенной техники:
13.5.2.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения низкотемпературных
контейнеров, криогенных
трубопроводов или
низкотемпературных
рефрижераторных систем закрытого
типа, предназначенных для
получения и поддержания
регулируемых температур ниже
100 К и пригодных для
использования на подвижных
наземных, морских, воздушных и
космических платформах
13.5.3. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения источников СВЧ и
микроволнового излучения большой
мощности (более 2,5 кВт):
13.5.3.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения мощных переключателей,
таких, как водородные тиратроны,
и их компонентов, в том числе:
13.5.3.1.1. эффективных устройств охлаждения
путем рассеяния тепла;
13.5.3.1.2. малоразмерных элементов для
уменьшения индуктивности приборов
и улучшения характеристики di/dt;
13.5.3.1.3. катодов большой площади;
13.5.3.1.4. устройств получения длительных
(до 30 с) импульсов;
13.5.3.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения волноводов и их
компонентов, в том числе:
13.5.3.2.1. массового производства одно- и
двухгребневых волноводов и
высокоточных волноводных
компонентов;
13.5.3.2.2. механических конструкций и
вращающихся сочленений;
13.5.3.2.3. устройств охлаждения
ферромагнитных компонентов;
13.5.3.2.4. прецизионных волноводов
миллиметровых волн и их
компонентов;
13.5.3.2.5. ферритовых деталей для
использования в ферромагнитных
компонентах волноводов;
13.5.3.2.6. ферромагнитных и механических
деталей для сборки ферромагнитных
узлов волноводов;
13.5.3.2.7. материалов типа
"диэлектрик-феррит" для
управления фазой сигнала и
уменьшения размеров антенны;
13.5.3.3. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения СВЧ и ВЧ-антенн,
специально предназначенных для
ускорения ионов
13.5.4. Технологии, связанные с
исследованием проблем
распространения радиоволн в
интересах создания перспективных
систем связи и управления:
13.5.4.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения средств КВ-радиосвязи,
такие, как:
13.5.4.1.1. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения автоматически
управляемых КВ-радиосистем, в
которых обеспечивается управление
качеством работы каналов связи;
13.5.4.1.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения устройств настройки
антенн, позволяющих настраиваться
на любую частоту в диапазоне от
1,5 до 88 МГц, которые
преобразуют начальный импеданс
антенны с коэффициентом стоячей
волны от 3-1 и более до 3-1 и
менее, и обеспечивающих настройку
при работе в любом из следующих
режимов:
а) в режиме приема за время 200
мс или менее;
б) в режиме передачи за время 200
мс или менее при уровнях мощности
ниже 100 Вт и за 1 с или менее
при уровнях свыше 100 Вт;
13.5.4.2. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения широкополосных
передающих антенн, имеющих
коэффициент перекрытия частотного
диапазона в пределах 10 и более и
коэффициент стоячей волны не
более 4;
13.5.4.3. Технологии, предназначенные для
разработки, производства или
применения станций радиорелейной
связи, использующих эффект
тропосферного рассеяния, и их
компонентов, таких, как:
13.5.4.3.1. усилителей мощности для работы в
диапазоне частот от 300 МГц до
8 ГГц, использующих жидкостно- и
пароохлаждаемые электронные лампы
мощностью более 10 кВт или лампы
с воздушным охлаждением мощностью
2 кВт или более и коэффициентом
усиления более 20%, включая
усилители, объединенные со своими
источниками электропитания;
13.5.4.3.2. приемников с уровнем шумов менее
ЗдБ;
13.5.4.3.3. специальных микроволновых
гибридных интегральных схем;
13.5.4.3.4. фазированных антенных решеток,
включая их распределенные
компоненты для формирования луча;
13.5.4.3.5. адаптивных антенн, способных к
установке нуля диаграммы
направленности в направлении на
источник помех;
13.5.4.3.6. средств радиорелейной связи для
передачи цифровой информации со
Страницы:
Стр.1 |
Стр.2 |
Стр.3 |
Стр.4 |
Стр.5 |
Стр.6 |
Стр.7 |
Стр.8 |
Стр.9 |
Стр.10 |
Стр.11 |
Стр.12 |
Стр.13 |
Стр.14 |
Стр.15 |
Стр.16 |
Стр.17 |
Стр.18 |
Стр.19 |
Стр.20 |
Стр.21 |
Стр.22 |
Стр.23 |
Стр.24 |
Стр.25 |
Стр.26 |
Стр.27 |
Стр.28 |
Стр.29 |
Стр.30 |
Стр.31 |
Стр.32 |
Стр.33 |
Стр.34 |
Стр.35 |
Стр.36 |
Стр.37 |
Стр.38 |
Стр.39 |
Стр.40 |
Стр.41 |
Стр.42 |
Стр.43 |
Стр.44 |
Стр.45 |
Стр.46 |
Стр.47 |
Стр.48 |
Стр.49 |
Стр.50 |
Стр.51 |
Стр.52 |
Стр.53 |
Стр.54 |
Стр.55 |
Стр.56
|
