Навигация
Новые документы
Реклама
Ресурсы в тему
|
Постановление Министерства иностранных дел Республики Беларусь, Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 04.04.2003 № 4/27 "Об утверждении перечней специфических товаров (работ, услуг)"Документ утратил силу
< Главная страницаСтр. 20Страницы: | Стр. 1 | Стр. 2 | Стр. 3 | Стр. 4 | Стр. 5 | Стр. 6 | Стр. 7 | Стр. 8 | Стр. 9 | Стр. 10 | Стр. 11 | Стр. 12 | Стр. 13 | Стр. 14 | Стр. 15 | Стр. 16 | Стр. 17 | Стр. 18 | Стр. 19 | Стр. 20 | Стр. 21 | Стр. 22 | Стр. 23 | ¦ ¦производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦термоэлектрических материалов с величиной ¦ ¦ ¦ ¦произведения z на кельвины более 0,85 (z - ¦ ¦ ¦ ¦определяется электропроводностью материала и ¦ ¦ ¦ ¦его термоэлектрическим коэффициентом Зеебека); ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦электротермических присоединений к ¦ ¦ ¦ ¦термоэлектрическим материалам и соединений ¦ ¦ ¦ ¦между этими материалами, характеризующихся ¦ ¦ ¦ ¦стабильностью при воздействии расчетных ¦ ¦ ¦ ¦температур и стойкостью к сильному ¦ ¦ ¦ ¦радиационному воздействию; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.1.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или применения методов терморегулирования, ¦ ¦ ¦ ¦позволяющих регулировать поток тепла в ¦ ¦ ¦ ¦зависимости от требований нагрузки и ¦ ¦ ¦ ¦изменений состояния источника тепла; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2. ¦Технологии термоэлектронного преобразования, ¦ ¦ ¦ ¦такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения ядерных ¦ ¦ ¦ ¦источников тепла, а именно: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.1.1. ¦высокотемпературных покрытий для ядерного ¦ ¦ ¦ ¦топлива из жаропрочных металлов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.1.2. ¦теплоизолирующих жаропрочных соединений; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.1.3. ¦топливных элементов для термоэлектронных ¦ ¦ ¦ ¦преобразователей на термоядерных реакторах; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения фокусирующих ¦ ¦ ¦ ¦параболических поверхностей, а именно: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.2.1. ¦материалов с заданными спектральными ¦ ¦ ¦ ¦характеристиками; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.2.2. ¦покрытий с повышенными адгезионными и ¦ ¦ ¦ ¦термомеханическими свойствами; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.2.3. ¦покрытий, стойких к воздействию экстремальных ¦ ¦ ¦ ¦условий внешней среды; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.4.2.2.4. ¦параболических концентраторов, включая: ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦а) расчетные параметры параболических ¦ ¦ ¦ ¦поверхностей; ¦ ¦ ¦ ¦б) разработку и производство термоэлектронных ¦ ¦ ¦ ¦эмиттеров и коллекторов, способных ¦ ¦ ¦ ¦выдерживать температуры 1300 град. C или более; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения первичных ¦ ¦ ¦ ¦энергетических систем, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения компактных c ¦ ¦ ¦ ¦удельной энергией 35 кДж/кг или более или ¦ ¦ ¦ ¦удельной мощностью 250 Вт/кг или более ¦ ¦ ¦ ¦мобильных, транспортабельных или ¦ ¦ ¦ ¦предназначенных для использования в ¦ ¦ ¦ ¦космическом пространстве первичных ¦ ¦ ¦ ¦энергетических систем, включая: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.1.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения компоновки для ¦ ¦ ¦ ¦обеспечения эксплуатационных характеристик в ¦ ¦ ¦ ¦пределах заданных ограничений по размерам, ¦ ¦ ¦ ¦массе и геометрии; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или применения методов защиты от воздействия ¦ ¦ ¦ ¦факторов окружающей среды, повышения ¦ ¦ ¦ ¦радиационной стойкости, определения ¦ ¦ ¦ ¦технических характеристик и проведения испытаний; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.1.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения методов ¦ ¦ ¦ ¦регулирования теплового режима; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.1.4. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения технических ¦ ¦ ¦ ¦средств контроля выбросов путем обеспечения ¦ ¦ ¦ ¦работы в замкнутом контуре или удержания; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения малогабаритных ¦ ¦ ¦ ¦ядерных источников энергии; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения имитационных ¦ ¦ ¦ ¦моделей для ЭВМ, а также необходимых для ¦ ¦ ¦ ¦этого баз расчетных данных и средств ¦ ¦ ¦ ¦программного обеспечения, позволяющих ¦ ¦ ¦ ¦характеризовать следующее: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.3.1. ¦работу и взаимодействие элементов комплексных ¦ ¦ ¦ ¦первичных электросиловых систем; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.3.2. ¦взаимодействие между первичными ¦ ¦ ¦ ¦энергосистемами и импульсными системами или ¦ ¦ ¦ ¦системами направленной энергии; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.5.3.3. ¦взаимодействие первичной электросиловой ¦ ¦ ¦ ¦системы с окружающей средой; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения импульсных ¦ ¦ ¦ ¦силовых систем, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1. ¦Технология проектирования и комплексирования ¦ ¦ ¦ ¦систем, включая: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.1. ¦разработку, производство или использование ¦ ¦ ¦ ¦технических средств и методов для ¦ ¦ ¦ ¦кондиционирования импульсов и передачи ¦ ¦ ¦ ¦мощности, включая: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.1.1. ¦технические средства для производства ¦ ¦ ¦ ¦высококачественных кабелей с большим сроком ¦ ¦ ¦ ¦службы, разъемов и изоляторов, а также ¦ ¦ ¦ ¦изоляционных материалов и устройств для ¦ ¦ ¦ ¦согласования импеданса; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.1.2. ¦методы обработки поверхностей для повышения ¦ ¦ ¦ ¦возможностей линий электропередачи при ¦ ¦ ¦ ¦напряженности свыше 10 МВ/м; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2. ¦разработку, производство или использование ¦ ¦ ¦ ¦импульсных силовых систем с удельной энергией ¦ ¦ ¦ ¦35 кДж/кг или более, удельной мощностью ¦ ¦ ¦ ¦250 Вт/кг или более, предназначенных для ¦ ¦ ¦ ¦мобильной эксплуатации при установке на ¦ ¦ ¦ ¦транспортных средствах или пригодных для ¦ ¦ ¦ ¦использования на космических аппаратах, включая: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2.1. ¦технические приемы компоновки для обеспечения ¦ ¦ ¦ ¦эксплуатационных характеристик в пределах ¦ ¦ ¦ ¦заданных ограничений по размерам, массе и ¦ ¦ ¦ ¦геометрии; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2.2. ¦методы защиты от воздействия факторов ¦ ¦ ¦ ¦окружающей среды и повышения радиационной ¦ ¦ ¦ ¦стойкости; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2.3. ¦методы регулирования теплового режима; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2.4. ¦механические средства контроля выбросов путем ¦ ¦ ¦ ¦обеспечения работы в замкнутом контуре или ¦ ¦ ¦ ¦удержания; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2.5. ¦методы сведения к минимуму или компенсации ¦ ¦ ¦ ¦различных усилий, вращающих моментов и вибрации; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.1.2.6. ¦методы контроля или сведения к минимуму ¦ ¦ ¦ ¦совместного влияния электромагнитных ¦ ¦ ¦ ¦импульсов и помех; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2. ¦Технология генерации и накопления: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения генераторов со ¦ ¦ ¦ ¦сжатием магнитного потока с единичным ¦ ¦ ¦ ¦энергозапасом более 50 МДж, включая: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.1.1. ¦разработку, производство или применение ¦ ¦ ¦ ¦магнитоэлектрических генераторов со сжатием ¦ ¦ ¦ ¦потока в расчете на минимизацию потерь и ¦ ¦ ¦ ¦максимизацию эффективности преобразования ¦ ¦ ¦ ¦энергии, включая: ¦ ¦ ¦ ¦а) методы уменьшения потерь магнитного потока ¦ ¦ ¦ ¦и его локализации; ¦ ¦ ¦ ¦б) методы предотвращения неблагоприятных ¦ ¦ ¦ ¦эффектов сильных магнитных полей; ¦ ¦ ¦ ¦в) методы предотвращения электрического пробоя; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.1.2. ¦разработку, производство или применение ¦ ¦ ¦ ¦технических средств и методов формирования ¦ ¦ ¦ ¦импульсов магнитоэлектрических генераторов со ¦ ¦ ¦ ¦сжатием потока, а также разработку особых ¦ ¦ ¦ ¦конструкций импульсных генераторов, входных и ¦ ¦ ¦ ¦выходных переключателей и формирование ¦ ¦ ¦ ¦передающих линий; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.1.3. ¦разработку трансформаторов связи для ¦ ¦ ¦ ¦магнитоэлектрических генераторов и применение ¦ ¦ ¦ ¦согласования импеданса; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.2. ¦Технология импульсных батарей: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения систем электродов ¦ ¦ ¦ ¦для получения импульсов сверхвысокой частоты ¦ ¦ ¦ ¦и методов химической обработки поверхности; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.6.2.2.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения электролитов с ¦ ¦ ¦ ¦высокой подвижностью носителей, большой ¦ ¦ ¦ ¦вязкостью или твердых электролитов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.7. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения радиоактивных ¦ ¦ ¦ ¦термоэлектрических источников питания для ¦ ¦ ¦ ¦подводного и космического применения и ¦ ¦ ¦ ¦связанного с ним оборудования; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦10.5.5.8. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения компактных и ¦ ¦ ¦ ¦легких прогонных или водородных ускорителей ¦ ¦ ¦ ¦ионов, рассчитанных на эксплуатацию в верхних ¦ ¦ ¦ ¦слоях атмосферы и (или) космическом пространстве ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦ Категория 11. Перспективные материалы ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.1. ¦Системы, оборудование и компоненты ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.1.1. ¦Изделия сложной формы, изготовленные из ¦ 7508 90 000 0 ¦ ¦ ¦направленно отверждающихся эвтектических и ¦ ¦ ¦ ¦монокристаллических суперсплавов путем отливки ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.2. ¦Испытательное, контрольное и производственное ¦ ¦ ¦ ¦оборудование ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.2.1. ¦Оборудование для тепловых испытаний образцов ¦ 9031 20 000 0; ¦ ¦ ¦материалов с углерод-углеродным покрытием при ¦ 9031 80 990 0 ¦ ¦ ¦температурах свыше 1650 град. C ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.3. ¦Материалы ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.3.1. ¦Композиционные материалы типа "Стекларм" на ¦ 3926 90 990 9; ¦ ¦ ¦основе стекломатрицы, армированной ¦ 7019 39 000 9; ¦ ¦ ¦высокопрочными волокнами, предназначенные для ¦ 7020 00 100 0; ¦ ¦ ¦изготовления деталей силовых установок (узлов ¦ 7020 00 800 0 ¦ ¦ ¦трения), работающих в агрессивных средах при ¦ ¦ ¦ ¦повышенных температурах (500 град. C или более) ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.3.2. ¦Композиционные материалы на основе стекла, ¦ 7019 39 000 9; ¦ ¦ ¦армированного непрерывными высокопрочными ¦ 7020 00 100 0; ¦ ¦ ¦волокнами с плотностью 1900 кг/куб.м или ¦ 7020 00 800 0 ¦ ¦ ¦более, прочностью 150 МПА или более и ¦ ¦ ¦ ¦температурой эксплуатации 500 град. C или более ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.3.3. ¦Композиционные материалы на основе стекла, в ¦ 3926 90 990 9; ¦ ¦ ¦системе SiO2-Al2O3-B2O3, армированного ¦ 7019 39 000 9; ¦ ¦ ¦жгутами из непрерывных высокопрочных волокон, ¦ 7020 00 100 0; ¦ ¦ ¦с плотностью 1730 кг/куб.м или более и ¦ 7020 00 800 0 ¦ ¦ ¦модулем упругости 230 ГПа или более ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.3.4. ¦Сплавы на основе Fe-Cr-Al, работающие ¦ 7224 - ¦ ¦ ¦длительное время в окислительной среде при ¦ 7229 ¦ ¦ ¦температуре 1400 град. C или более, способные к ¦ ¦ ¦ ¦экструдированию и прокатыванию ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.4. ¦Программное обеспечение - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5. ¦Технологии ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения конструкционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов, покрытий, методов обеспечения ¦ ¦ ¦ ¦прочности и повышения стойкости к внешним ¦ ¦ ¦ ¦воздействиям среды и различным поражающим факторам:¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.1.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства сплавов на основе молибдена, ¦ ¦ ¦ ¦легированного редкоземельными и другими ¦ ¦ ¦ ¦металлами, в части их составов, режимов ¦ ¦ ¦ ¦получения и обработки; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства изделий сложной формы путем ¦ ¦ ¦ ¦отливки из направленно отверждающихся ¦ ¦ ¦ ¦эвтектических и монокристаллических ¦ ¦ ¦ ¦суперсплавов, включая состав литья, свойства ¦ ¦ ¦ ¦и технологические процессы, а также режимы и ¦ ¦ ¦ ¦контроль параметров отверждения и ¦ ¦ ¦ ¦промежуточный контроль во время плавки и отливки; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.1.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства слитков алюминий-литиевых ¦ ¦ ¦ ¦сплавов, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.1.3.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или применения процессов плавки, легирования ¦ ¦ ¦ ¦и литья слитков, позволяющих преодолеть ¦ ¦ ¦ ¦химическую активность таких сплавов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.1.3.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или применения процессов термомеханической ¦ ¦ ¦ ¦обработки, необходимых для получения ¦ ¦ ¦ ¦требуемых механических свойств сплавов ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения композиционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов типа "Стекларм" на основе ¦ ¦ ¦ ¦стекломатрицы, армированной высокопрочными ¦ ¦ ¦ ¦волокнами, предназначенные для изготовления ¦ ¦ ¦ ¦деталей силовых установок (узлов трения), ¦ ¦ ¦ ¦работающих в агрессивных средах при ¦ ¦ ¦ ¦повышенных температурах (500 град. C или более) ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения композиционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов на основе стекла, армированного ¦ ¦ ¦ ¦непрерывными высокопрочными волокнами с ¦ ¦ ¦ ¦плотностью 1900 кг/куб.м или более, ¦ ¦ ¦ ¦прочностью 150 МПА или более и температурой ¦ ¦ ¦ ¦эксплуатации 500 град. C или более ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.4. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения композиционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов на основе стекла, в системе ¦ ¦ ¦ ¦SiO2-Al2O3-B2O3, армированного жгутами из ¦ ¦ ¦ ¦непрерывных высокопрочных волокон, с ¦ ¦ ¦ ¦плотностью 1730 кг/куб.м или более и модулем ¦ ¦ ¦ ¦упругости 230 ГПа или более ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦11.5.5. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения сплавов на основе ¦ ¦ ¦ ¦Fe-Cr-Al, работающих длительное время в ¦ ¦ ¦ ¦окислительной среде при температуре 1400 град. C ¦ ¦ ¦ ¦или более, способных к экструдированию и ¦ ¦ ¦ ¦прокатыванию ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦ Категория 12. Обработка материалов ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.1. ¦Системы, оборудование и компоненты ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.1.1. ¦Высокоточные воздушные подшипниковые системы ¦ 8483 30 390 0; ¦ ¦ ¦и их компоненты ¦ 8483 90 300 0 ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2. ¦Испытательное, контрольное и производственное ¦ ¦ ¦ ¦оборудование ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.1. ¦Оборудование больших вакуумных систем: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.1.1. ¦Системы с криогенными насосами (системы, в ¦ 8414 10 500 0 ¦ ¦ ¦которых для достижения вакуума статически или ¦ ¦ ¦ ¦динамически обеспечивается циркуляция ¦ ¦ ¦ ¦охлажденного или сжиженного газа путем ¦ ¦ ¦ ¦понижения температуры среды), рассчитанные на ¦ ¦ ¦ ¦эксплуатацию при температурах ниже 200 град. C, ¦ ¦ ¦ ¦измеренных при атмосферном давлении; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.1.2. ¦Системы управления на базе компьютера ¦ 9032 20 900 0; ¦ ¦ ¦для управления процессом вакуумизации ¦ 9032 89 900 0 ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.1.3. ¦Высоковакуумные системы, в которых объем ¦ 8419 89 989 0 ¦ ¦ ¦камеры более одного литра и которые можно ¦ ¦ ¦ ¦откачивать до давления менее 1,3 х 10 мкПа ¦ ¦ ¦ ¦при том, что температура в камере ¦ ¦ ¦ ¦поддерживается выше 800 град. C ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.2. ¦Оборудование высококачественной сварки: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.2.1. ¦Датчики и системы управления для сварочного ¦ ¦ ¦ ¦оборудования, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.2.1.1. ¦микропроцессоры и оборудование с цифровым ¦ 8542 21 83; ¦ ¦ ¦управлением, которые прослеживают сварной шов ¦ 9031 80 990 0; ¦ ¦ ¦в реальном масштабе времени, контролируя его ¦ 9032 89 900 0 ¦ ¦ ¦геометрию; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.2.2.1.2. ¦микропроцессоры и оборудование с цифровым ¦ 8542 21 83; ¦ ¦ ¦управлением, которые в реальном масштабе ¦ 9031 80 990 0; ¦ ¦ ¦времени контролируют и корректируют параметры ¦ 9032 89 900 0 ¦ ¦ ¦сварки в зависимости от изменений сварного ¦ ¦ ¦ ¦шва или состояния сварочной дуги ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.3. ¦Материалы - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.4. ¦Программное обеспечение - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5. ¦Технологии ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения высокоточных ¦ ¦ ¦ ¦воздушных подшипниковых систем и их компонентов ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения глубоковакуумных ¦ ¦ ¦ ¦процессов: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения больших вакуумных ¦ ¦ ¦ ¦систем, таких, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.2.1.1. ¦систем с криогенными насосами (систем, в ¦ ¦ ¦ ¦которых для достижения вакуума статически или ¦ ¦ ¦ ¦динамически обеспечивается циркуляция ¦ ¦ ¦ ¦охлажденного или сжиженного газа путем ¦ ¦ ¦ ¦понижения температуры среды), рассчитанных на ¦ ¦ ¦ ¦эксплуатацию при температурах ниже 200 град. C, ¦ ¦ ¦ ¦измеренных при атмосферном давлении; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.2.1.2. ¦систем управления на базе ЭВМ для управления ¦ ¦ ¦ ¦процессом вакуумизации; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.2.1.3. ¦высоковакуумных систем, в которых объем ¦ ¦ ¦ ¦камеры более одного литра и которые можно ¦ ¦ ¦ ¦откачивать до давления менее 1,3 х 10 мкПа ¦ ¦ ¦ ¦при том, что температура в камере ¦ ¦ ¦ ¦поддерживается выше 800 град. C ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦высококачественной сварки: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.3.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения датчиков и систем ¦ ¦ ¦ ¦управления для сварочного оборудования, ¦ ¦ ¦ ¦такого, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.3.1.1. ¦микропроцессоров и оборудования с цифровым ¦ ¦ ¦ ¦управлением, которые прослеживают сварной шов ¦ ¦ ¦ ¦в реальном масштабе времени, контролируя его ¦ ¦ ¦ ¦геометрию; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.3.1.2. ¦микропроцессоров и оборудования с цифровым ¦ ¦ ¦ ¦управлением, которые в реальном масштабе ¦ ¦ ¦ ¦времени контролируют и корректируют параметры ¦ ¦ ¦ ¦сварки в зависимости от изменений сварного ¦ ¦ ¦ ¦шва или состояния сварочной дуги ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.4. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства проволоки, наплавочного ¦ ¦ ¦ ¦материала и фитильных или покрытых электродов ¦ ¦ ¦ ¦для сварки изделий из титана, алюминия и ¦ ¦ ¦ ¦высокопрочной стали, а также составление ¦ ¦ ¦ ¦материалов для покрытий и сердцевин электродов ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦12.5.5. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства металлических конструкций и ¦ ¦ ¦ ¦компонентов методом электронно-лучевой сварки ¦ ¦ ¦ ¦с использованием машинного управления ¦ ¦ ¦ ¦технологическим процессом ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦ Категория 13. Электроника ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.1. ¦Системы, оборудование и компоненты - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.2. ¦Испытательное, контрольное и производственное ¦ ¦ ¦ ¦оборудование - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.3. ¦Материалы - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4. ¦Программное обеспечение ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.1. ¦Программное обеспечение, разработанное для ¦ ¦ ¦ ¦анализа нелинейного взаимодействия пакета волн ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.2. ¦Программное обеспечение, предназначенное для ¦ ¦ ¦ ¦разработки и производства электрических и ¦ ¦ ¦ ¦механических элементов антенн, а также для ¦ ¦ ¦ ¦анализа тепловых деформаций конструкции антенны ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3. ¦Программное обеспечение, предназначенное для ¦ ¦ ¦ ¦разработки, производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦космических элементов спутниковой системы ¦ ¦ ¦ ¦связи и их элементов, таких, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3.1. ¦развертываемых антенн, а также механизмов их ¦ ¦ ¦ ¦развертывания, включая контроль поверхности ¦ ¦ ¦ ¦антенн при их изготовлении и динамический ¦ ¦ ¦ ¦контроль развернутых антенн; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3.2. ¦антенных решеток с фиксированной апертурой, ¦ ¦ ¦ ¦включая контроль их поверхности при производстве; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3.3. ¦антенных решеток, состоящих из линейки ¦ ¦ ¦ ¦рупорных излучателей, формирующих диаграмму ¦ ¦ ¦ ¦направленности путем изменения фазы сигнала и ¦ ¦ ¦ ¦установки нуля диаграммы направленности на ¦ ¦ ¦ ¦источник помех; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3.4. ¦микрополосковых фазированных антенных ¦ ¦ ¦ ¦решеток, включая компоненты для формирования ¦ ¦ ¦ ¦нуля диаграммы в направлении на источник помех; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3.5. ¦трактов передачи энергии от передатчика к ¦ ¦ ¦ ¦антенне, обеспечивающих хорошее их согласование; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.3.6. ¦антенн и компонентов на основе композиционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов для достижения требуемых ¦ ¦ ¦ ¦характеристик прочности и жесткости при ¦ ¦ ¦ ¦минимальном весе, стабильности длительной их ¦ ¦ ¦ ¦работы в широком диапазоне температур ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.4. ¦Программное обеспечение, предназначенное для ¦ ¦ ¦ ¦разработки, производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦полосовых фильтров с полосой пропускания ¦ ¦ ¦ ¦менее 0,1% или более 10% среднего значения частоты ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.4.5. ¦Программное обеспечение, предназначенное для ¦ ¦ ¦ ¦разработки или производства аппаратуры, ¦ ¦ ¦ ¦указанной в пунктах 13.5.5.1 - 13.5.5.5 ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5. ¦Технологии ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.1. ¦Технологии, связанные с разработкой, ¦ ¦ ¦ ¦производством или применением вакуумной ¦ ¦ ¦ ¦электроники, акустоэлектроники и сегнетоэлектрики: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.1.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения оборудования с ¦ ¦ ¦ ¦цифровым управлением, позволяющего ¦ ¦ ¦ ¦осуществлять автоматическую ориентацию ¦ ¦ ¦ ¦рентгеновского луча и коррекцию углового ¦ ¦ ¦ ¦положения кварцевых кристаллов с компенсацией ¦ ¦ ¦ ¦механических напряжений, вращающихся по двум ¦ ¦ ¦ ¦осям при величине погрешности 10 угловых ¦ ¦ ¦ ¦секунд или менее, которая поддерживается ¦ ¦ ¦ ¦одновременно для двух осей вращения; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения оборудования для ¦ ¦ ¦ ¦равномерного покрытия поверхности мембран, ¦ ¦ ¦ ¦электродов и волоконно-оптических элементов ¦ ¦ ¦ ¦монослоями биополимеров или биополимерных ¦ ¦ ¦ ¦композиций ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения криогенной техники: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦низкотемпературных контейнеров, криогенных ¦ ¦ ¦ ¦трубопроводов или низкотемпературных ¦ ¦ ¦ ¦рефрижераторных систем закрытого типа, ¦ ¦ ¦ ¦предназначенных для получения и поддержания ¦ ¦ ¦ ¦регулируемых температур ниже 100 К и ¦ ¦ ¦ ¦пригодных для использования на подвижных ¦ ¦ ¦ ¦наземных, морских, воздушных и космических ¦ ¦ ¦ ¦платформах ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения источников СВЧ и ¦ ¦ ¦ ¦микроволнового излучения большой мощности ¦ ¦ ¦ ¦(более 2,5 кВт): ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения мощных ¦ ¦ ¦ ¦переключателей, таких, как водородные ¦ ¦ ¦ ¦тиратроны, и их компонентов, в том числе: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.1.1. ¦эффективных устройств охлаждения путем ¦ ¦ ¦ ¦рассеяния тепла; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.1.2. ¦малоразмерных элементов для уменьшения ¦ ¦ ¦ ¦индуктивности приборов и улучшения ¦ ¦ ¦ ¦характеристики di/dt; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.1.3. ¦катодов большой площади; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.1.4. ¦устройств получения длительных (до 30 с) импульсов;¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения волноводов и их ¦ ¦ ¦ ¦компонентов, в том числе: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.1. ¦массового производства одно- и двухгребневых ¦ ¦ ¦ ¦волноводов и высокоточных волноводных компонентов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.2. ¦механических конструкций и вращающихся сочленений; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.3. ¦устройств охлаждения ферромагнитных компонентов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.4. ¦прецизионных волноводов миллиметровых волн и ¦ ¦ ¦ ¦их компонентов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.5. ¦ферритовых деталей для использования в ¦ ¦ ¦ ¦ферромагнитных компонентах волноводов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.6. ¦ферромагнитных и механических деталей для ¦ ¦ ¦ ¦сборки ферромагнитных узлов волноводов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.2.7. ¦материалов типа "диэлектрик-феррит" для ¦ ¦ ¦ ¦управления фазой сигнала и уменьшения ¦ ¦ ¦ ¦размеров антенны; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.3.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения СВЧ и ВЧ-антенн, ¦ ¦ ¦ ¦специально предназначенных для ускорения ионов ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4. ¦Технологии, связанные с исследованием проблем ¦ ¦ ¦ ¦распространения радиоволн в интересах ¦ ¦ ¦ ¦создания перспективных систем связи и управления: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения средств ¦ ¦ ¦ ¦КВ-радиосвязи, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.1.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения автоматически ¦ ¦ ¦ ¦управляемых КВ-радиосистем, в которых ¦ ¦ ¦ ¦обеспечивается управление качеством работы ¦ ¦ ¦ ¦каналов связи; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения устройств ¦ ¦ ¦ ¦настройки антенн, позволяющих настраиваться ¦ ¦ ¦ ¦на любую частоту в диапазоне от 1,5 до 88 ¦ ¦ ¦ ¦МГц, которые преобразуют начальный импеданс ¦ ¦ ¦ ¦антенны с коэффициентом стоячей волны от 3 - ¦ ¦ ¦ ¦1 и более до 3 - 1 и менее, и обеспечивающих ¦ ¦ ¦ ¦настройку при работе в любом из следующих режимов: ¦ ¦ ¦ ¦а) в режиме приема за время 200 мс или менее; ¦ ¦ ¦ ¦б) в режиме передачи за время 200 мс или ¦ ¦ ¦ ¦менее при уровнях мощности ниже 100 Вт и за 1 ¦ ¦ ¦ ¦с или менее при уровнях свыше 100 Вт; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения широкополосных ¦ ¦ ¦ ¦передающих антенн, имеющих коэффициент ¦ ¦ ¦ ¦перекрытия частотного диапазона в пределах 10 ¦ ¦ ¦ ¦и более и коэффициент стоячей волны не более 4; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения станций ¦ ¦ ¦ ¦радиорелейной связи, использующих эффект ¦ ¦ ¦ ¦тропосферного рассеяния, и их компонентов, ¦ ¦ ¦ ¦таких, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.1. ¦усилителей мощности для работы в диапазоне ¦ ¦ ¦ ¦частот от 300 МГц до 8 ГГц, использующих ¦ ¦ ¦ ¦жидкостно- и пароохлаждаемые электронные ¦ ¦ ¦ ¦лампы мощностью более 10 кВт или лампы с ¦ ¦ ¦ ¦воздушным охлаждением мощностью 2 кВт или ¦ ¦ ¦ ¦более и коэффициентом усиления более 20%, ¦ ¦ ¦ ¦включая усилители, объединенные со своими ¦ ¦ ¦ ¦источниками электропитания; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.2. ¦приемников с уровнем шумов менее 3 дБ; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.3. ¦специальных микроволновых гибридных ¦ ¦ ¦ ¦интегральных схем; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.4. ¦фазированных антенных решеток, включая их ¦ ¦ ¦ ¦распределенные компоненты для формирования луча; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.5. ¦адаптивных антенн, способных к установке нуля ¦ ¦ ¦ ¦диаграммы направленности в направлении на ¦ ¦ ¦ ¦источник помех; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.6. ¦средств радиорелейной связи для передачи ¦ ¦ ¦ ¦цифровой информации со скоростью выше ¦ ¦ ¦ ¦2,1 Мбит/с и более 1 бит/цикл; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.3.7. ¦средств радиорелейной многоканальной (более ¦ ¦ ¦ ¦120 каналов) связи с разделением каналов по ¦ ¦ ¦ ¦частоте; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения космических ¦ ¦ ¦ ¦спутниковых систем связи и их элементов, ¦ ¦ ¦ ¦таких, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4.1. ¦развертываемых антенн, а также механизмов их ¦ ¦ ¦ ¦развертывания, включая контроль поверхности ¦ ¦ ¦ ¦антенн при их изготовлении и динамический ¦ ¦ ¦ ¦контроль развернутых антенн; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4.2. ¦антенных решеток с фиксированной апертурой, ¦ ¦ ¦ ¦включая контроль их поверхности при производстве; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4.3. ¦антенных решеток, состоящих из линейки ¦ ¦ ¦ ¦рупорных излучателей, формирующих диаграмму ¦ ¦ ¦ ¦направленности путем изменения фазы сигнала и ¦ ¦ ¦ ¦установки нуля диаграммы направленности на ¦ ¦ ¦ ¦источник помех; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4.4. ¦микрополосковых фазированных антенных ¦ ¦ ¦ ¦решеток, включая компоненты для формирования ¦ ¦ ¦ ¦нуля диаграммы в направлении на источник помех; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4.5. ¦трактов передачи энергии от передатчика к ¦ ¦ ¦ ¦антенне, обеспечивающих хорошее их согласование; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.4.6. ¦антенн и компонентов на основе композиционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов для достижения требуемых ¦ ¦ ¦ ¦характеристик прочности и жесткости при ¦ ¦ ¦ ¦минимальном весе, стабильности длительной их ¦ ¦ ¦ ¦работы в широком диапазоне температур, ¦ ¦ ¦ ¦включая технологии стабилизации параметров в ¦ ¦ ¦ ¦процессе изготовления компонентов из ¦ ¦ ¦ ¦эпоксидных смол с графитовым наполнением; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.5. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства усилителей мощности, ¦ ¦ ¦ ¦предназначенных для применения в космосе и ¦ ¦ ¦ ¦имеющих одно из следующих устройств и особенностей:¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.5.1. ¦приборы с теплообменными устройствами, ¦ ¦ ¦ ¦содержащими схемы теплопередачи от элемента к ¦ ¦ ¦ ¦поглотителю тепла мощностью свыше 25 Вт с ¦ ¦ ¦ ¦площади 900 кв.см; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.5.2. ¦блоки, работающие на частотах 18 ГГц или ¦ ¦ ¦ ¦обеспечивающие следующие мощности: 10 Вт на ¦ ¦ ¦ ¦частоте 0,5 ГГц, или 5 Вт на частоте 2 ГГц, ¦ ¦ ¦ ¦или 1 Вт на частоте 11 ГГц; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.4.5.3. ¦высоковольтные источники питания, имеющие ¦ ¦ ¦ ¦соотношение мощность / масса и ¦ ¦ ¦ ¦мощность / габариты более 1 Вт/кг и 1 Вт на ¦ ¦ ¦ ¦320 кв.см ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5. ¦Технологии, связанные с разработкой методов и ¦ ¦ ¦ ¦способов радиоэлектронной разведки и подавления: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения средств ¦ ¦ ¦ ¦радиоэлектронной разведки и подавления, ¦ ¦ ¦ ¦такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.1.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения систем разведки и ¦ ¦ ¦ ¦подавления, управляемых оператором или ¦ ¦ ¦ ¦работающих автоматизированно и ¦ ¦ ¦ ¦предназначенных для перехвата, анализа, ¦ ¦ ¦ ¦подавления и нарушения нормальной работы ¦ ¦ ¦ ¦систем связи всех типов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения приемников, ¦ ¦ ¦ ¦работающих с сигналами, имеющими коэффициент ¦ ¦ ¦ ¦сжатия, превышающий 100; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения приемников, ¦ ¦ ¦ ¦использующих дисперсионные фильтры и ¦ ¦ ¦ ¦конвольверы с уровнем побочных сигналов на ¦ ¦ ¦ ¦20 дБ ниже основного сигнала; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения приемников, ¦ ¦ ¦ ¦предназначенных для обнаружения, перехвата, ¦ ¦ ¦ ¦анализа, подавления сигналов, в том числе с ¦ ¦ ¦ ¦модуляцией распределенным спектром; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.4. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения устройств ¦ ¦ ¦ ¦автоматической настройки антенны, ¦ ¦ ¦ ¦обеспечивающих ее перестройку со скоростью не ¦ ¦ ¦ ¦менее 30 МГц/с; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.5.5. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения средств ¦ ¦ ¦ ¦автоматического определения направления, ¦ ¦ ¦ ¦способных считывать пеленги со скоростями не ¦ ¦ ¦ ¦менее одного пеленга в секунду ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦изготовления или применения запоминающих ¦ ¦ ¦ ¦устройств (ЗУ) на тонких пленках, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения ЗУ на ЦМД; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения материалов и ¦ ¦ ¦ ¦оборудования для изготовления ЗУ на ЦМД; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.3. ¦Технологии, предназначенные для выращивания и ¦ ¦ ¦ ¦обработки материалов для изготовления ¦ ¦ ¦ ¦подложек ЗУ на магнитных доменах, например, ¦ ¦ ¦ ¦из материала на основе галлий-гадолиниевого ¦ ¦ ¦ ¦граната; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.4. ¦Технологии, предназначенные для ¦ ¦ ¦ ¦эпитаксиального выращивания пленок для ЗУ на ЦМД; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.5. ¦Технологии, предназначенные для осаждения ¦ ¦ ¦ ¦пермаллоя и диэлектрика и создания рисунка, ¦ ¦ ¦ ¦включая металлизацию напылением или ¦ ¦ ¦ ¦испарением и ионное фрезерование; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.6. ¦Технологии, предназначенные для компоновки и ¦ ¦ ¦ ¦сборки ЗУ на ЦМД; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.6.7. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦ионных имплантантов и ЗУ с соприкасающимися ¦ ¦ ¦ ¦дисками и методы создания рисунка ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7. ¦Технологии, предназначенные для разработки, ¦ ¦ ¦ ¦производства или применения ЗУ на проволоке с ¦ ¦ ¦ ¦гальваническим покрытием, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства ЗУ на проволоке с ¦ ¦ ¦ ¦гальваническим покрытием, включая: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.1.1. ¦подготовку бериллиево-медной подложки для ¦ ¦ ¦ ¦обеспечения чистой и однородной поверхности; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.1.2. ¦покрытие медью для обеспечения требуемых ¦ ¦ ¦ ¦плотности и шероховатости проволоки; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.1.3. ¦конструирование устройств для нанесения ¦ ¦ ¦ ¦покрытий требуемых составов, однородности и ¦ ¦ ¦ ¦толщины пермаллойного (никелево-железного) ¦ ¦ ¦ ¦магнитного материала на проволочные подложки; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.1.4. ¦автоматизированные испытания в ходе нанесения ¦ ¦ ¦ ¦покрытия на проволоку и проверка после ¦ ¦ ¦ ¦окончания процесса с тем, чтобы гарантировать ¦ ¦ ¦ ¦нужные параметры; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства запоминающих устройств на ¦ ¦ ¦ ¦проволоке, такие, как: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства магнитных экранов для ¦ ¦ ¦ ¦запоминающих устройств, в том числе ¦ ¦ ¦ ¦пермаллойного слоя; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.2.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства туннельных структур для ¦ ¦ ¦ ¦плотного и дешевого размещения элементов ЗУ ¦ ¦ ¦ ¦на проволоке с гальваническим покрытием; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦13.5.7.2.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или производства ферритовых слоев для ¦ ¦ ¦ ¦формирования линий магнитного потока и ¦ ¦ ¦ ¦увеличения плотности упаковки вдоль проволоки ¦ ¦ ¦ ¦с нанесенным покрытием ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦ Категория 14. Телекоммуникация и обработка информации ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.1. ¦Системы, оборудование и компоненты ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.1.1. ¦Дисплеи (в том числе индикаторы на лобовом ¦ 8471 60 100 0; ¦ ¦ ¦стекле фонаря кабины), которые позволяют ¦ 8471 60 900 0; ¦ ¦ ¦оператору воспринимать и использовать в ¦ 8528 21; ¦ ¦ ¦реальном масштабе времени отображаемую ¦ 8528 22 000 0; ¦ ¦ ¦информацию при одновременном продолжении ¦ 9013 80 ¦ ¦ ¦выполнения других задач ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.1.2. ¦Гибридные электрооптические системы анализа ¦ 8471; ¦ ¦ ¦изображений ¦ 9031 80 990 0 ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.2. ¦Испытательное, контрольное и производственное ¦ ¦ ¦ ¦оборудование - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.3. ¦Материалы - нет ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4. ¦Программное обеспечение ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.1. ¦Программное обеспечение, связанное с ¦ ¦ ¦ ¦проблемами искусственного интеллекта, ¦ ¦ ¦ ¦принятия решений и построения ¦ ¦ ¦ ¦интеллектуальных систем управления: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.1.1. ¦Методы разработки и использования языков ¦ ¦ ¦ ¦высокого уровня, предназначенных для ¦ ¦ ¦ ¦программирования задач искусственного интеллекта ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.2. ¦Программное обеспечение, связанное с ¦ ¦ ¦ ¦распознаванием образов, использованием ¦ ¦ ¦ ¦нейросетевых алгоритмов и нейрокомпьютеров ¦ ¦ ¦ ¦для решения прикладных задач: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.2.1. ¦Программное обеспечение идентификации объектов; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.2.2. ¦Программное обеспечение для разработки и ¦ ¦ ¦ ¦применения сценариев обработки изображения; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.2.3. ¦Интегрированные наборы стандартных программ ¦ ¦ ¦ ¦для обработки изображений при помощи ¦ ¦ ¦ ¦соответствующих операционных систем; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.4.2.4. ¦Программное обеспечение компьютеров и ¦ ¦ ¦ ¦математические модели для создания систем ¦ ¦ ¦ ¦обработки речи и приложения искусственного ¦ ¦ ¦ ¦интеллекта к синтаксису и смысловой оценке ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦По пунктам 14.4.1 - 14.4.2.4 не ¦ ¦ ¦ ¦контролируется программное обеспечение, ¦ ¦ ¦ ¦предназначенное для следующего (только ¦ ¦ ¦ ¦гражданского) применения: ¦ ¦ ¦ ¦а) в спортивных целях; ¦ ¦ ¦ ¦б) в автомобильной промышленности; ¦ ¦ ¦ ¦в) в медицинских целях; ¦ ¦ ¦ ¦г) в сельском хозяйстве; ¦ ¦ ¦ ¦д) на железнодорожном транспорте; ¦ ¦ ¦ ¦е) в системах телевизионного вещания ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5. ¦Технологии ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1. ¦Технологии, связанные с проблемами ¦ ¦ ¦ ¦искусственного интеллекта, принятия решений и ¦ ¦ ¦ ¦построения интеллектуальных систем управления: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1. ¦Технологии систем обеспечения принятия решения: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦систем обеспечения принятия решения для ¦ ¦ ¦ ¦комбинированных комплексов, состоящих из ¦ ¦ ¦ ¦датчиков, систем связи и управления, с ¦ ¦ ¦ ¦использованием: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.1.1. ¦Машинного моделирования и имитации; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.1.2. ¦Системотехники; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.1.3. ¦Методов комплексирования управления базой ¦ ¦ ¦ ¦данных обеспечения принятия решения; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦автоматизированных средств принятия решения, ¦ ¦ ¦ ¦включающих: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.2.1. ¦Использование методов распознавания ¦ ¦ ¦ ¦интерпретации образов для случаев сложного анализа;¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.2.2. ¦методы автоматизированной выработки и оценки ¦ ¦ ¦ ¦альтернативных решений; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.2.3. ¦использование специально разработанных ¦ ¦ ¦ ¦средств принятия решения, основанных на ¦ ¦ ¦ ¦логике или математике; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.3. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦систем обеспечения принятия решения в ¦ ¦ ¦ ¦реальном масштабе времени на основе: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.3.1. ¦моделирования и имитации; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.1.3.2. ¦методов использования информационной обратной ¦ ¦ ¦ ¦связи в системах, рассчитанных на многих ¦ ¦ ¦ ¦пользователей; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.2. ¦Технологии интеграции человек-машина: ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.2.1. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или применения средств для оценки ¦ ¦ ¦ ¦возможностей интеграции оператор-система; ¦ ¦ +-----------------+---------------------------------------------------+----------------+ ¦14.5.1.2.2. ¦Технологии, предназначенные для разработки ¦ ¦ ¦ ¦или применения биокибернетических методов для ¦ ¦ ¦ ¦компьютерного мониторинга электрической ¦ ¦ ¦ ¦активности мозга и других ¦ ¦ Страницы: | Стр. 1 | Стр. 2 | Стр. 3 | Стр. 4 | Стр. 5 | Стр. 6 | Стр. 7 | Стр. 8 | Стр. 9 | Стр. 10 | Стр. 11 | Стр. 12 | Стр. 13 | Стр. 14 | Стр. 15 | Стр. 16 | Стр. 17 | Стр. 18 | Стр. 19 | Стр. 20 | Стр. 21 | Стр. 22 | Стр. 23 | |
Новости законодательства
Новости Спецпроекта "Тюрьма"
Новости сайта
Новости Беларуси
Полезные ресурсы
Счетчики
|