|
|
|
|
Навигация
Новые документы
Реклама
Ресурсы в тему
|
Постановление Государственного военно-промышленного комитета Республики Беларусь, Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 06.06.2012 № 6/15 "О внесении изменений в постановление Государственного военно-промышленного комитета Республики Беларусь и Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 28 декабря 2007 г. № 15/137"< Главная страница Стр. 3Страницы: | Стр. 1 | Стр. 2 | Стр. 3 | Стр. 4 | Стр. 5 | Стр. 6 | Стр. 7 | Стр. 8 | Стр. 9 | Стр. 10 | Стр. 11 | Стр. 12 | Стр. 13 | Стр. 14 | Стр. 15 | Стр. 16 | Стр. 17 | Стр. 18 | Стр. 19 | +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.1.1. ¦Токарные станки, имеющие все следующие ¦8458; ¦ ¦ ¦характеристики: ¦8464 90 000 0; ¦ ¦ ¦а) точность позиционирования вдоль любой¦8465 99 000 0 ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 4,5 мкм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; и ¦ ¦ ¦ ¦б) две или более оси, которые могут быть¦ ¦ ¦ ¦совместно скоординированы для контурного¦ ¦ ¦ ¦управления ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Пункт 2.2.1.1 не применяется к токарным ¦ ¦ ¦ ¦станкам, специально разработанным для ¦ ¦ ¦ ¦производства контактных линз, имеющим ¦ ¦ ¦ ¦все следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦а) контроллер станка, ограниченный для ¦ ¦ ¦ ¦применения в офтальмологических целях и ¦ ¦ ¦ ¦основанный на программном обеспечении ¦ ¦ ¦ ¦для частичного программируемого ввода ¦ ¦ ¦ ¦данных; и ¦ ¦ ¦ ¦б) отсутствие вакуумного патрона ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.1.2. ¦Фрезерные станки, имеющие любую из ¦8459 31 000 0; ¦ ¦ ¦следующих характеристик: ¦8459 51 000 0; ¦ ¦ ¦а) имеющие все следующие характеристики:¦8459 61; ¦ ¦ ¦точность позиционирования вдоль любой ¦8464 90 000 0; ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦8465 92 000 0 ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 4,5 мкм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; и ¦ ¦ ¦ ¦три линейные оси плюс одну ось вращения,¦ ¦ ¦ ¦которые могут быть совместно ¦ ¦ ¦ ¦скоординированы для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления; ¦ ¦ ¦ ¦б) пять или более осей, которые могут ¦ ¦ ¦ ¦быть совместно скоординированы для ¦ ¦ ¦ ¦контурного управления; ¦ ¦ ¦ ¦в) для координатно-расточных станков ¦ ¦ ¦ ¦точность позиционирования вдоль любой ¦ ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 3 мкм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; или ¦ ¦ ¦ ¦г) станки с летучей фрезой, имеющие все ¦ ¦ ¦ ¦следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦биение шпинделя и эксцентриситет менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) 0,0004 мм полного показания ¦ ¦ ¦ ¦индикатора (ППИ); и ¦ ¦ ¦ ¦повороты суппорта относительно трех ¦ ¦ ¦ ¦ортогональных осей меньше (лучше) двух ¦ ¦ ¦ ¦дуговых секунд ППИ на 300 мм перемещения¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.1.3. ¦Шлифовальные станки, имеющие любую из ¦8460 11 000; ¦ ¦ ¦следующих характеристик: ¦8460 19 000 0; ¦ ¦ ¦а) имеющие все следующие характеристики:¦8460 21; ¦ ¦ ¦точность позиционирования вдоль любой ¦8460 29; ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦8464 20 800 0; ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 3 мкм или менее ¦8465 93 000 0 ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; и ¦ ¦ ¦ ¦три или более оси, которые могут быть ¦ ¦ ¦ ¦совместно скоординированы для контурного¦ ¦ ¦ ¦управления; или ¦ ¦ ¦ ¦б) пять или более осей, которые могут ¦ ¦ ¦ ¦быть совместно скоординированы для ¦ ¦ ¦ ¦контурного управления ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Пункт 2.2.1.3 не применяется к следующим¦ ¦ ¦ ¦шлифовальным станкам: ¦ ¦ ¦ ¦а) круглошлифовальным, ¦ ¦ ¦ ¦внутришлифовальным и универсальным ¦ ¦ ¦ ¦шлифовальным станкам, обладающим всеми ¦ ¦ ¦ ¦следующими характеристиками: ¦ ¦ ¦ ¦предназначенным лишь для круглого ¦ ¦ ¦ ¦шлифования; и ¦ ¦ ¦ ¦максимально возможной длиной или ¦ ¦ ¦ ¦наружным диаметром обрабатываемой детали¦ ¦ ¦ ¦150 мм; ¦ ¦ ¦ ¦б) станкам, специально разработанным как¦ ¦ ¦ ¦координатно-шлифовальные станки, не ¦ ¦ ¦ ¦имеющие Z-оси или W-оси, с точностью ¦ ¦ ¦ ¦позиционирования со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями меньше (лучше) 3 мкм в ¦ ¦ ¦ ¦соответствии с международным стандартом ¦ ¦ ¦ ¦ISO 230/2 (1997) или его национальным ¦ ¦ ¦ ¦эквивалентом; ¦ ¦ ¦ ¦в) плоскошлифовальным станкам ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.1.4. ¦Станки для электроискровой обработки ¦8456 30 ¦ ¦ ¦(СЭО) беспроволочного типа, имеющие две ¦ ¦ ¦ ¦или более оси вращения, которые могут ¦ ¦ ¦ ¦быть совместно скоординированы для ¦ ¦ ¦ ¦контурного управления ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.1.5. ¦Станки для обработки металлов, керамики ¦8424 30 900 0; ¦ ¦ ¦или композиционных материалов, имеющие ¦8456 10 00; ¦ ¦ ¦все следующие характеристики: ¦8456 90 800 0 ¦ ¦ ¦а) обработка материалов осуществляется ¦ ¦ ¦ ¦любым из следующих способов: ¦ ¦ ¦ ¦струями воды или других жидкостей, в том¦ ¦ ¦ ¦числе с абразивными присадками; ¦ ¦ ¦ ¦электронным лучом; или ¦ ¦ ¦ ¦лазерным лучом; и ¦ ¦ ¦ ¦б) по крайней мере две оси вращения, ¦ ¦ ¦ ¦имеющие все следующее: ¦ ¦ ¦ ¦возможность быть совместно ¦ ¦ ¦ ¦скоординированными для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления; и ¦ ¦ ¦ ¦точность позиционирования менее (лучше) ¦ ¦ ¦ ¦0,003 градуса ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.1.6. ¦Сверлильные станки для сверления ¦8458; ¦ ¦ ¦глубоких отверстий или токарные станки, ¦8459 21 000 0; ¦ ¦ ¦модифицированные для сверления глубоких ¦8459 29 000 0 ¦ ¦ ¦отверстий, обеспечивающие максимальную ¦ ¦ ¦ ¦глубину сверления отверстий более 5000 ¦ ¦ ¦ ¦мм, и специально разработанные для них ¦ ¦ ¦ ¦компоненты ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.2. ¦Станки с числовым программным ¦8464 20 110 0; ¦ ¦ ¦управлением для чистовой обработки ¦8464 20 190 0; ¦ ¦ ¦(финишные станки) асферических ¦8464 20 800 0; ¦ ¦ ¦оптических поверхностей с выборочным ¦8465 93 000 0 ¦ ¦ ¦снятием материала, имеющие все следующие¦ ¦ ¦ ¦характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦а) осуществляющие доводку контура до ¦ ¦ ¦ ¦менее (лучше) 1,0 мкм; ¦ ¦ ¦ ¦б) осуществляющие чистовую обработку до ¦ ¦ ¦ ¦среднеквадратичного значения ¦ ¦ ¦ ¦шероховатости менее (лучше) 100 нм; ¦ ¦ ¦ ¦в) имеющие четыре или более оси, которые¦ ¦ ¦ ¦могут быть совместно скоординированы для¦ ¦ ¦ ¦контурного управления; и ¦ ¦ ¦ ¦г) использующие любой из следующих ¦ ¦ ¦ ¦процессов: ¦ ¦ ¦ ¦магнитореологической чистовой обработки ¦ ¦ ¦ ¦(МРЧО); ¦ ¦ ¦ ¦электрореологической чистовой обработки ¦ ¦ ¦ ¦(ЭРЧО); ¦ ¦ ¦ ¦чистовой обработки пучками ¦ ¦ ¦ ¦высокоэнергетических частиц; ¦ ¦ ¦ ¦чистовой обработки с помощью рабочего ¦ ¦ ¦ ¦органа в виде надувной мембраны; или ¦ ¦ ¦ ¦жидкоструйной чистовой обработки ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Для целей пункта 2.2.2: ¦ ¦ ¦ ¦а) под МРЧО понимается процесс съема ¦ ¦ ¦ ¦материала, использующий абразивную ¦ ¦ ¦ ¦магнитную жидкость, вязкость которой ¦ ¦ ¦ ¦регулируется магнитным полем; ¦ ¦ ¦ ¦б) под ЭРЧО понимается процесс съема ¦ ¦ ¦ ¦материала, использующий абразивную ¦ ¦ ¦ ¦жидкость, вязкость которой регулируется ¦ ¦ ¦ ¦электрическим полем; ¦ ¦ ¦ ¦в) под чистовой обработкой пучками ¦ ¦ ¦ ¦высокоэнергетических частиц понимается ¦ ¦ ¦ ¦процесс, использующий плазму атомов ¦ ¦ ¦ ¦химически активных элементов или пучки ¦ ¦ ¦ ¦ионов для избирательного съема ¦ ¦ ¦ ¦материала; ¦ ¦ ¦ ¦г) под чистовой обработкой с помощью ¦ ¦ ¦ ¦рабочего органа в виде надувной мембраны¦ ¦ ¦ ¦понимается процесс, в котором ¦ ¦ ¦ ¦используется мембрана под давлением, ¦ ¦ ¦ ¦деформирующая изделие при контакте с ней¦ ¦ ¦ ¦на небольшом участке; ¦ ¦ ¦ ¦д) под жидкоструйной чистовой обработкой¦ ¦ ¦ ¦понимается процесс, использующий поток ¦ ¦ ¦ ¦жидкости для съема материала ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.3. ¦Станки с числовым программным ¦8461 40 710 0; ¦ ¦ ¦управлением или станки с ручным ¦8461 40 790 0 ¦ ¦ ¦управлением и специально предназначенные¦ ¦ ¦ ¦для них компоненты, оборудование для ¦ ¦ ¦ ¦контроля и приспособления, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанные для шевингования, финишной¦ ¦ ¦ ¦обработки, шлифования или хонингования ¦ ¦ ¦ ¦закаленных (Rc = 40 или более) ¦ ¦ ¦ ¦прямозубых цилиндрических, косозубых и ¦ ¦ ¦ ¦шевронных шестерен диаметром делительной¦ ¦ ¦ ¦окружности более 1250 мм и шириной ¦ ¦ ¦ ¦зубчатого венца, равной 15% от диаметра ¦ ¦ ¦ ¦делительной окружности или более, с ¦ ¦ ¦ ¦качеством после финишной обработки по ¦ ¦ ¦ ¦классу 3 в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 1328 ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.4. ¦Горячие изостатические прессы, имеющие ¦8462 99 ¦ ¦ ¦все нижеперечисленное, и специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанные для них компоненты и ¦ ¦ ¦ ¦приспособления: ¦ ¦ ¦ ¦а) камеры с регулируемыми температурами ¦ ¦ ¦ ¦внутри рабочей полости и внутренним ¦ ¦ ¦ ¦диаметром полости камеры 406 мм и более;¦ ¦ ¦ ¦и ¦ ¦ ¦ ¦б) любую из следующих характеристик: ¦ ¦ ¦ ¦максимальное рабочее давление выше 207 ¦ ¦ ¦ ¦МПа; ¦ ¦ ¦ ¦регулируемые температуры выше 1773 К ¦ ¦ ¦ ¦(1500 °C); или ¦ ¦ ¦ ¦оборудование для насыщения углеводородом¦ ¦ ¦ ¦и удаления газообразных продуктов ¦ ¦ ¦ ¦разложения ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Внутренний размер камеры относится к ¦ ¦ ¦ ¦полости, в которой достигаются рабочие ¦ ¦ ¦ ¦давление и температура, при этом ¦ ¦ ¦ ¦исключаются установочные приспособления.¦ ¦ ¦ ¦Указанный выше размер будет наименьшим ¦ ¦ ¦ ¦из двух размеров - внутреннего диаметра ¦ ¦ ¦ ¦камеры высокого давления или внутреннего¦ ¦ ¦ ¦диаметра изолированной ¦ ¦ ¦ ¦высокотемпературной камеры - в ¦ ¦ ¦ ¦зависимости от того, какая из этих камер¦ ¦ ¦ ¦находится в другой ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5. ¦Оборудование, специально разработанное ¦ ¦ ¦ ¦для осаждения, обработки и активного ¦ ¦ ¦ ¦управления процессом нанесения ¦ ¦ ¦ ¦неорганических покрытий, слоев и ¦ ¦ ¦ ¦модификации поверхности (за исключением ¦ ¦ ¦ ¦формирования подложек для электронных ¦ ¦ ¦ ¦схем) с использованием процессов, ¦ ¦ ¦ ¦указанных в таблице к пункту 2.5.3.6 и ¦ ¦ ¦ ¦отмеченных в примечаниях к ней, а также ¦ ¦ ¦ ¦специально разработанные для него ¦ ¦ ¦ ¦автоматизированные компоненты установки,¦ ¦ ¦ ¦позиционирования, манипулирования и ¦ ¦ ¦ ¦регулирования: ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.1. ¦Производственное оборудование для ¦8419 89 989 0 ¦ ¦ ¦химического осаждения из паровой фазы ¦ ¦ ¦ ¦(CVD), имеющее все нижеследующее: ¦ ¦ ¦ ¦а) процесс, модифицированный для ¦ ¦ ¦ ¦реализации одного из следующих методов: ¦ ¦ ¦ ¦CVD с пульсирующим режимом; ¦ ¦ ¦ ¦термического осаждения с управляемым ¦ ¦ ¦ ¦образованием центров кристаллизации ¦ ¦ ¦ ¦(CNTD); или ¦ ¦ ¦ ¦CVD с применением плазменного разряда, ¦ ¦ ¦ ¦модифицирующего процесс; и ¦ ¦ ¦ ¦б) включающее любое из следующего: ¦ ¦ ¦ ¦высоковакуумные (вакуум, равный 0,01 Па ¦ ¦ ¦ ¦или ниже (лучше) вращающиеся уплотнения;¦ ¦ ¦ ¦или ¦ ¦ ¦ ¦средства регулирования толщины покрытия ¦ ¦ ¦ ¦в процессе осаждения ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.2. ¦Производственное оборудование ионной ¦8543 10 000 0 ¦ ¦ ¦имплантации с током пучка 5 мА или более¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.3. ¦Технологическое оборудование для ¦8543 70 900 0 ¦ ¦ ¦физического осаждения из паровой фазы, ¦ ¦ ¦ ¦получаемой нагревом электронным пучком ¦ ¦ ¦ ¦(EB-PVD), включающее силовые системы с ¦ ¦ ¦ ¦расчетной мощностью более 80 кВт и ¦ ¦ ¦ ¦имеющее любую из следующих составляющих:¦ ¦ ¦ ¦а) лазерную систему управления уровнем ¦ ¦ ¦ ¦жидкой ванны, которая точно регулирует ¦ ¦ ¦ ¦скорость подачи заготовок; или ¦ ¦ ¦ ¦б) управляемое компьютером контрольно- ¦ ¦ ¦ ¦измерительное устройство, работающее на ¦ ¦ ¦ ¦принципе фотолюминесценции ¦ ¦ ¦ ¦ионизированных атомов в потоке пара, ¦ ¦ ¦ ¦необходимое для управления скоростью ¦ ¦ ¦ ¦осаждения покрытия, содержащего два или ¦ ¦ ¦ ¦более элемента ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.4. ¦Производственное оборудование ¦8419 89 300 0; ¦ ¦ ¦плазменного напыления, обладающее любой ¦8419 89 98 ¦ ¦ ¦из следующих характеристик: ¦ ¦ ¦ ¦а) работающее при пониженном давлении ¦ ¦ ¦ ¦контролируемой атмосферы (равном или ¦ ¦ ¦ ¦ниже 10 кПа, измеряемом на расстоянии до¦ ¦ ¦ ¦300 мм над выходным сечением сопла ¦ ¦ ¦ ¦плазменной горелки) в вакуумной камере, ¦ ¦ ¦ ¦которая перед началом процесса напыления¦ ¦ ¦ ¦может быть откачана до 0,01 Па; или ¦ ¦ ¦ ¦б) включающее средства регулирования ¦ ¦ ¦ ¦толщины покрытия в процессе напыления ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.5. ¦Производственное оборудование осаждения ¦8419 89 300 0; ¦ ¦ ¦распылением, обеспечивающее плотность ¦8419 89 98 ¦ ¦ ¦тока 0,1 мА/кв.мм или более, со ¦ ¦ ¦ ¦скоростью осаждения 15 мкм/ч или более ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.6. ¦Производственное оборудование катодно- ¦8543 70 900 0 ¦ ¦ ¦дугового напыления, включающее систему ¦ ¦ ¦ ¦электромагнитов для управления ¦ ¦ ¦ ¦положением активного пятна дуги на ¦ ¦ ¦ ¦катоде ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.5.7. ¦Производственное оборудование, способное¦8543 70 900 0 ¦ ¦ ¦к измерению в процессе ионного осаждения¦ ¦ ¦ ¦любого из следующего: ¦ ¦ ¦ ¦а) толщины покрытия на подложке с ¦ ¦ ¦ ¦управлением скоростью осаждения; или ¦ ¦ ¦ ¦б) оптических характеристик ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Пункты 2.2.5.1, 2.2.5.2, 2.2.5.5, ¦ ¦ ¦ ¦2.2.5.6 и 2.2.5.7 не применяются ¦ ¦ ¦ ¦соответственно к оборудованию ¦ ¦ ¦ ¦химического осаждения из паровой фазы ¦ ¦ ¦ ¦(CVD), ионной имплантации, осаждения ¦ ¦ ¦ ¦распылением, катодно-дугового напыления ¦ ¦ ¦ ¦и ионного осаждения, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанному для покрытия режущего или¦ ¦ ¦ ¦обрабатывающего инструмента ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.6. ¦Системы, оборудование и электронные ¦ ¦ ¦ ¦сборки для измерения или контроля ¦ ¦ ¦ ¦размеров: ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.6.1. ¦Координатно-измерительные машины (КИМ) с¦9031 80 320 0; ¦ ¦ ¦компьютерным управлением или числовым ¦9031 80 340 0 ¦ ¦ ¦программным управлением, имеющие в ¦ ¦ ¦ ¦соответствии с международным стандартом ¦ ¦ ¦ ¦ISO 10360-2 (2009) пространственную ¦ ¦ ¦ ¦(объемную) максимально допустимую ¦ ¦ ¦ ¦погрешность измерения длины (E ) в ¦ ¦ ¦ ¦ 0,MPE ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦любой точке в пределах рабочего ¦ ¦ ¦ ¦диапазона машины (то есть в пределах ¦ ¦ ¦ ¦длины осей), равную или меньше (лучше) ¦ ¦ ¦ ¦(1,7 + L/1000) мкм ¦ ¦ ¦ ¦(L - измеряемая длина в миллиметрах) ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦(E ) лучшей компоновки КИМ, ¦ ¦ ¦ ¦ 0,MPE ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦определенная производителем (например, ¦ ¦ ¦ ¦лучшее из следующего: измерительная ¦ ¦ ¦ ¦головка, длина измерительного ¦ ¦ ¦ ¦наконечника, параметры хода, режим ¦ ¦ ¦ ¦работы) и со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями, должна сравниваться с ¦ ¦ ¦ ¦пороговой величиной (1,7 + L/1000) мкм ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.6.2. ¦Приборы для измерения линейных или ¦ ¦ ¦ ¦угловых перемещений: ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.6.2.1. ¦Приборы для измерения линейных ¦9031 49 900 0; ¦ ¦ ¦перемещений, имеющие любую из следующих ¦9031 80 320 0; ¦ ¦ ¦составляющих: ¦9031 80 340 0; ¦ ¦ ¦ ¦9031 80 910 0 ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Для целей пункта 2.2.6.2.1 линейное ¦ ¦ ¦ ¦перемещение означает изменение ¦ ¦ ¦ ¦расстояния между измеряющим элементом и ¦ ¦ ¦ ¦контролируемым объектом ¦ ¦ ¦ ¦а) измерительные системы бесконтактного ¦ ¦ ¦ ¦типа с разрешением, равным или меньше ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) 0,2 мкм, при диапазоне измерений¦ ¦ ¦ ¦до 0,2 мм; ¦ ¦ ¦ ¦б) системы с индуктивными ¦ ¦ ¦ ¦дифференциальными датчиками, имеющие все¦ ¦ ¦ ¦следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦линейность, равную или меньше (лучше) ¦ ¦ ¦ ¦0,1%, в диапазоне измерений до 5 мм; и ¦ ¦ ¦ ¦дрейф, равный или меньше (лучше) 0,1% в ¦ ¦ ¦ ¦день, при стандартной комнатной ¦ ¦ ¦ ¦температуре +/-1 К; ¦ ¦ ¦ ¦в) измерительные системы, имеющие все ¦ ¦ ¦ ¦следующие составляющие: ¦ ¦ ¦ ¦содержащие лазер; и ¦ ¦ ¦ ¦сохраняющие в течение по крайней мере 12¦ ¦ ¦ ¦часов при температуре 20 °C +/- 1 °C все¦ ¦ ¦ ¦следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦разрешение на полной шкале 0,1 мкм или ¦ ¦ ¦ ¦меньше (лучше); и ¦ ¦ ¦ ¦способность достигать погрешности ¦ ¦ ¦ ¦измерения при компенсации показателя ¦ ¦ ¦ ¦преломления воздуха, равной или меньше ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) (0,2 + L/2000) мкм ¦ ¦ ¦ ¦(L - измеряемая длина в миллиметрах); ¦ ¦ ¦ ¦или ¦ ¦ ¦ ¦г) электронные сборки, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанные для обеспечения ¦ ¦ ¦ ¦возможности обратной связи в системах, ¦ ¦ ¦ ¦определенных в подпункте "в" пункта ¦ ¦ ¦ ¦2.2.6.2.1 ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Пункт 2.2.6.2.1 не применяется к ¦ ¦ ¦ ¦измерительным интерферометрическим ¦ ¦ ¦ ¦системам с автоматическим управлением, ¦ ¦ ¦ ¦разработанным для применения техники без¦ ¦ ¦ ¦обратной связи, содержащим лазер для ¦ ¦ ¦ ¦измерения погрешностей перемещения ¦ ¦ ¦ ¦подвижных частей станков, приборов для ¦ ¦ ¦ ¦измерения размеров или другого подобного¦ ¦ ¦ ¦оборудования ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.6.2.2. ¦Приборы для измерения угловых ¦9031 49 900 0; ¦ ¦ ¦перемещений с погрешностью измерения по ¦9031 80 320 0; ¦ ¦ ¦угловой координате, равной или меньше ¦9031 80 340 0; ¦ ¦ ¦(лучше) 0,00025 градуса ¦9031 80 910 0 ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Пункт 2.2.6.2.2 не применяется к ¦ ¦ ¦ ¦оптическим приборам, таким как ¦ ¦ ¦ ¦автоколлиматоры, использующие ¦ ¦ ¦ ¦коллимированный свет (например, лазерное¦ ¦ ¦ ¦излучение) для фиксации углового ¦ ¦ ¦ ¦смещения зеркала ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.6.3. ¦Оборудование для измерения чистоты ¦9031 49 900 0 ¦ ¦ ¦поверхности с применением оптического ¦ ¦ ¦ ¦рассеяния как функции угла с ¦ ¦ ¦ ¦чувствительностью 0,5 нм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Пункт 2.2.6 включает станки, отличные от¦ ¦ ¦ ¦определенных в пункте 2.2.1, которые ¦ ¦ ¦ ¦могут быть использованы в качестве ¦ ¦ ¦ ¦измерительных машин, если их параметры ¦ ¦ ¦ ¦соответствуют критериям, определенным ¦ ¦ ¦ ¦для параметров измерительных машин, или ¦ ¦ ¦ ¦превосходят их ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.7. ¦Роботы, имеющие любую из ¦8479 50 000 0; ¦ ¦ ¦нижеперечисленных характеристик, и ¦8537 10 100 0; ¦ ¦ ¦специально разработанные для них ¦8537 10 910 9; ¦ ¦ ¦устройства управления и рабочие органы: ¦8537 10 990 0 ¦ ¦ ¦а) способность в реальном масштабе ¦ ¦ ¦ ¦времени осуществлять полную трехмерную ¦ ¦ ¦ ¦обработку изображений или полный ¦ ¦ ¦ ¦трехмерный анализ сцены с генерированием¦ ¦ ¦ ¦или модификацией программ либо с ¦ ¦ ¦ ¦генерированием или модификацией данных ¦ ¦ ¦ ¦для числового программного управления ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Ограничения по анализу сцены не включают¦ ¦ ¦ ¦аппроксимацию третьего измерения по ¦ ¦ ¦ ¦результатам наблюдения под заданным ¦ ¦ ¦ ¦углом или ограниченную черно-белую ¦ ¦ ¦ ¦интерпретацию восприятия глубины или ¦ ¦ ¦ ¦текстуры для утвержденных заданий (2 1/2¦ ¦ ¦ ¦D); ¦ ¦ ¦ ¦б) специально разработанные в ¦ ¦ ¦ ¦соответствии с национальными стандартами¦ ¦ ¦ ¦безопасности применительно к условиям ¦ ¦ ¦ ¦работы со взрывчатыми веществами, ¦ ¦ ¦ ¦которые могут быть использованы в ¦ ¦ ¦ ¦военных целях ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Подпункт "б" пункта 2.2.7 не применяется¦ ¦ ¦ ¦к роботам, специально разработанным для ¦ ¦ ¦ ¦применения в камерах для окраски ¦ ¦ ¦ ¦распылением; ¦ ¦ ¦ ¦в) специально разработанные или ¦ ¦ ¦ ¦оцениваемые как радиационно стойкие, ¦ ¦ ¦ ¦ 3 ¦ ¦ ¦ ¦выдерживающие более 5 x 10 Гр (по ¦ ¦ ¦ ¦ 5 ¦ ¦ ¦ ¦кремнию) [5 x 10 рад] без ухудшения ¦ ¦ ¦ ¦эксплуатационных характеристик; или ¦ ¦ ¦ ¦г) специально разработанные для работы ¦ ¦ ¦ ¦на высотах, превышающих 30000 м ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.8. ¦Узлы или блоки, специально разработанные¦ ¦ ¦ ¦для станков, или системы для контроля ¦ ¦ ¦ ¦или измерения размеров: ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.8.1. ¦Линейные измерительные элементы обратной¦9031 ¦ ¦ ¦связи (например, устройства индуктивного¦ ¦ ¦ ¦типа, калиброванные шкалы, инфракрасные ¦ ¦ ¦ ¦системы или лазерные системы), имеющие ¦ ¦ ¦ ¦полную точность менее (лучше) ¦ ¦ ¦ ¦ -3 ¦ ¦ ¦ ¦[800 + (600 x L x 10 )] нм ¦ ¦ ¦ ¦(L - эффективная длина в миллиметрах) ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Особое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Для лазерных систем см. также подпункты ¦ ¦ ¦ ¦"в" и "г" пункта 2.2.6.2.1 ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.8.2. ¦Угловые измерительные элементы обратной ¦9031 ¦ ¦ ¦связи (например, устройства индуктивного¦ ¦ ¦ ¦типа, калиброванные шкалы, инфракрасные ¦ ¦ ¦ ¦системы или лазерные системы), имеющие ¦ ¦ ¦ ¦точность менее (лучше) 0,00025 градуса ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Особое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Для лазерных систем см. также пункт ¦ ¦ ¦ ¦2.2.6.2.2 ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.8.3. ¦Составные поворотные столы или ¦8466 ¦ ¦ ¦качающиеся шпиндели, применение которых ¦ ¦ ¦ ¦в соответствии с техническими ¦ ¦ ¦ ¦характеристиками изготовителя может ¦ ¦ ¦ ¦модифицировать станки до уровня, ¦ ¦ ¦ ¦определенного в пункте 2.2, или выше ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.2.9. ¦Обкатные вальцовочные и гибочные станки,¦8462 21 100; ¦ ¦ ¦которые в соответствии с технической ¦8462 21 800; ¦ ¦ ¦документацией производителя могут быть ¦8463 90 000 0 ¦ ¦ ¦оборудованы блоками числового ¦ ¦ ¦ ¦программного управления или компьютерным¦ ¦ ¦ ¦управлением и которые имеют все ¦ ¦ ¦ ¦следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦а) две или более контролируемые оси, по ¦ ¦ ¦ ¦крайней мере две из которых могут быть ¦ ¦ ¦ ¦одновременно скоординированы для ¦ ¦ ¦ ¦контурного управления; и ¦ ¦ ¦ ¦б) усилие на валке/ролике более 60 кН ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Станки, объединяющие функции обкатных ¦ ¦ ¦ ¦вальцовочных и гибочных станков, ¦ ¦ ¦ ¦рассматриваются для целей пункта 2.2.9 ¦ ¦ ¦ ¦как относящиеся к гибочным станкам ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.3. ¦Материалы - нет ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.4. ¦Программное обеспечение ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.4.1. ¦Программное обеспечение иное, чем ¦ ¦ ¦ ¦определенное в пункте 2.4.2, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанное или модифицированное для ¦ ¦ ¦ ¦разработки, производства или применения ¦ ¦ ¦ ¦подшипников или подшипниковых систем, ¦ ¦ ¦ ¦определенных в пункте 2.1.1, или ¦ ¦ ¦ ¦оборудования, определенного в пункте 2.2¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Особое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦В отношении программного обеспечения, ¦ ¦ ¦ ¦указанного в пункте 2.4.1, см. также ¦ ¦ ¦ ¦пункт 2.4.1 раздела 2 ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.4.2. ¦Программное обеспечение для электронных ¦ ¦ ¦ ¦устройств, в том числе встроенное в ¦ ¦ ¦ ¦электронное устройство или систему, ¦ ¦ ¦ ¦дающее возможность таким устройствам или¦ ¦ ¦ ¦системам функционировать как блок ЧПУ, ¦ ¦ ¦ ¦способный координировать одновременно ¦ ¦ ¦ ¦более четырех осей для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечания: ¦ ¦ ¦ ¦1. Пункт 2.4.2 не применяется к ¦ ¦ ¦ ¦программному обеспечению, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанному или модифицированному для¦ ¦ ¦ ¦работы станков, не определенных в ¦ ¦ ¦ ¦категории 2. ¦ ¦ ¦ ¦2. Пункт 2.4.2 не применяется к ¦ ¦ ¦ ¦программному обеспечению для изделий, ¦ ¦ ¦ ¦определенных в пункте 2.2.2. Для такого ¦ ¦ ¦ ¦программного обеспечения см. пункт 2.4.1¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5. ¦Технология ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.1. ¦Технологии в соответствии с общим ¦ ¦ ¦ ¦технологическим примечанием для ¦ ¦ ¦ ¦разработки подшипников или подшипниковых¦ ¦ ¦ ¦систем, определенных в пункте 2.1.1, ¦ ¦ ¦ ¦оборудования, определенного в пункте ¦ ¦ ¦ ¦2.2, или программного обеспечения, ¦ ¦ ¦ ¦определенного в пункте 2.4 ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.2. ¦Технологии в соответствии с общим ¦ ¦ ¦ ¦технологическим примечанием для ¦ ¦ ¦ ¦производства подшипников или ¦ ¦ ¦ ¦подшипниковых систем, определенных в ¦ ¦ ¦ ¦пункте 2.1.1, или оборудования, ¦ ¦ ¦ ¦определенного в пункте 2.2 ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Особое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦В отношении технологий, указанных в ¦ ¦ ¦ ¦пунктах 2.5.1 и 2.5.2, см. также пункт ¦ ¦ ¦ ¦2.5.1 раздела 2 ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3. ¦Иные нижеследующие технологии: ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.1. ¦Технологии разработки интерактивной ¦ ¦ ¦ ¦графики как встроенной части блока ¦ ¦ ¦ ¦числового программного управления для ¦ ¦ ¦ ¦подготовки или модификации программ ¦ ¦ ¦ ¦обработки деталей ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.2. ¦Технологии производственных процессов ¦ ¦ ¦ ¦металлообработки: ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.2.1. ¦Технологии проектирования инструмента, ¦ ¦ ¦ ¦пресс-форм или зажимных приспособлений, ¦ ¦ ¦ ¦специально разработанные для любого из ¦ ¦ ¦ ¦следующих процессов: ¦ ¦ ¦ ¦а) формообразования в условиях ¦ ¦ ¦ ¦сверхпластичности; ¦ ¦ ¦ ¦б) диффузионной сварки; или ¦ ¦ ¦ ¦в) гидравлического прессования прямого ¦ ¦ ¦ ¦действия ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.2.2. ¦Технические данные, включающие описание ¦ ¦ ¦ ¦технологического процесса или его ¦ ¦ ¦ ¦параметры: ¦ ¦ ¦ ¦а) для формообразования в условиях ¦ ¦ ¦ ¦сверхпластичности изделий из ¦ ¦ ¦ ¦алюминиевых, титановых сплавов или ¦ ¦ ¦ ¦суперсплавов: ¦ ¦ ¦ ¦подготовка поверхности; ¦ ¦ ¦ ¦скорость деформации; ¦ ¦ ¦ ¦температура; ¦ ¦ ¦ ¦давление; ¦ ¦ ¦ ¦б) для диффузионной сварки титановых ¦ ¦ ¦ ¦сплавов или суперсплавов: ¦ ¦ ¦ ¦подготовка поверхности; ¦ ¦ ¦ ¦температура; ¦ ¦ ¦ ¦давление; ¦ ¦ ¦ ¦в) для гидравлического прессования ¦ ¦ ¦ ¦прямого действия алюминиевых или ¦ ¦ ¦ ¦титановых сплавов: ¦ ¦ ¦ ¦давление; ¦ ¦ ¦ ¦время цикла; ¦ ¦ ¦ ¦г) для горячего изостатического ¦ ¦ ¦ ¦уплотнения титановых, алюминиевых ¦ ¦ ¦ ¦сплавов или суперсплавов: ¦ ¦ ¦ ¦температура; ¦ ¦ ¦ ¦давление; ¦ ¦ ¦ ¦время цикла ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.3. ¦Технологии разработки или производства ¦ ¦ ¦ ¦гидравлических прессов для штамповки с ¦ ¦ ¦ ¦вытяжкой и соответствующих матриц для ¦ ¦ ¦ ¦изготовления конструкций корпусов ¦ ¦ ¦ ¦летательных аппаратов ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.4. ¦Технологии разработки генераторов ¦ ¦ ¦ ¦машинных команд для управления станком ¦ ¦ ¦ ¦(например, программ обработки деталей) ¦ ¦ ¦ ¦на основе проектных данных, хранимых в ¦ ¦ ¦ ¦блоках числового программного управления¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.5. ¦Технологии разработки комплексного ¦ ¦ ¦ ¦программного обеспечения для включения ¦ ¦ ¦ ¦экспертных систем, повышающих в ¦ ¦ ¦ ¦заводских условиях операционные ¦ ¦ ¦ ¦возможности блоков числового ¦ ¦ ¦ ¦программного управления ¦ ¦ +---------------+----------------------------------------+----------------+ ¦ 2.5.3.6. ¦Технологии нанесения наружных слоев ¦ ¦ ¦ ¦неорганических покрытий, в том числе для¦ ¦ ¦ ¦модификации поверхностей, определенных в¦ ¦ ¦ ¦колонке "Получаемое покрытие" таблицы к ¦ ¦ ¦ ¦настоящему пункту, на подложки для ¦ ¦ ¦ ¦неэлектронных приборов/компонентов, ¦ ¦ ¦ ¦определенные в колонке "Подложки" ¦ ¦ ¦ ¦указанной таблицы, с использованием ¦ ¦ ¦ ¦процессов, определенных в колонке ¦ ¦ ¦ ¦"Процесс нанесения покрытия" этой же ¦ ¦ ¦ ¦таблицы и описанных в технических ¦ ¦ ¦ ¦примечаниях к ней ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Особое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Нижеприведенная таблица к пункту 2.5.3.6¦ ¦ ¦ ¦должна рассматриваться для определения ¦ ¦ ¦ ¦технологии конкретного процесса ¦ ¦ ¦ ¦нанесения покрытия, только когда ¦ ¦ ¦ ¦относящееся к этому процессу получаемое ¦ ¦ ¦ ¦покрытие находится в абзаце таблицы, ¦ ¦ ¦ ¦расположенном напротив выбранной ¦ ¦ ¦ ¦подложки. ¦ ¦ ¦ ¦Например, технические характеристики ¦ ¦ ¦ ¦процесса химического осаждения из ¦ ¦ ¦ ¦паровой фазы (CVD) (колонка таблицы ¦ ¦ ¦ ¦"Процесс нанесения покрытия") включают ¦ ¦ ¦ ¦нанесение силицидов (колонка таблицы ¦ ¦ ¦ ¦"Получаемое покрытие") на подложки из ¦ ¦ ¦ ¦углерод-углерода, композиционных ¦ ¦ ¦ ¦материалов с керамической или ¦ ¦ ¦ ¦металлической матрицей (колонка таблицы ¦ ¦ ¦ ¦"Подложки"), но не включают их нанесение¦ ¦ ¦ ¦на подложки из металлокерамического ¦ ¦ ¦ ¦карбида вольфрама (16), карбида кремния ¦ ¦ ¦ ¦(18), так как во втором случае покрытие ¦ ¦ ¦ ¦из силицидов не перечислено в абзаце ¦ ¦ ¦ ¦колонки "Получаемое покрытие", ¦ ¦ ¦ ¦расположенном непосредственно напротив ¦ ¦ ¦ ¦абзаца соответствующего перечня колонки ¦ ¦ ¦ ¦"Подложки" (металлокерамический карбид ¦ ¦ ¦ ¦вольфрама (16), карбид кремния (18) ¦ ¦ ¦---------------+----------------------------------------+----------------- Таблица к пункту 2.5.3.6 Технические приемы нанесения покрытий------------------+----------------------+---------------------------- ¦ Процесс ¦ ¦ ¦ ¦ нанесения ¦ Подложки ¦ Получаемое покрытие ¦ ¦ покрытия (1) ¦ ¦ ¦ ¦ <***> ¦ ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦1. Химическое ¦суперсплавы ¦алюминиды на поверхности ¦ ¦осаждение из ¦ ¦внутренних каналов ¦ ¦паровой фазы ¦ ¦ ¦ ¦(CVD) ¦ ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦керамика (19) и стекла¦силициды, карбиды, ¦ ¦ ¦с малым коэффициентом ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦линейного расширения ¦алмаз, алмазоподобный углерод ¦ ¦ ¦(14) ¦(17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦углерод-углерод, ¦силициды, карбиды, тугоплавкие ¦ ¦ ¦композиционные ¦металлы, смеси перечисленных ¦ ¦ ¦материалы с ¦выше материалов (4), ¦ ¦ ¦керамической или ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦алюминиды, сплавы на основе ¦ ¦ ¦ ¦алюминидов (2), нитрид бора ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦металлокерамический ¦карбиды, вольфрам, смеси ¦ ¦ ¦карбид вольфрама (16),¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦карбид кремния (18) ¦(4), диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦молибден и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦бериллий и его сплавы ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦ ¦алмаз, алмазоподобный углерод ¦ ¦ ¦ ¦(17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦материалы окон ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦датчиков (9) ¦алмаз, алмазоподобный углерод ¦ ¦ ¦ ¦(17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦2. Физическое ¦ ¦ ¦ ¦осаждение из ¦ ¦ ¦ ¦паровой фазы, ¦ ¦ ¦ ¦получаемой ¦ ¦ ¦ ¦нагревом ¦ ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦2.1. Физическое ¦суперсплавы ¦сплавы на основе силицидов, ¦ ¦осаждение из ¦ ¦сплавы на основе алюминидов ¦ ¦паровой фазы, ¦ ¦(2), MСrAlX (5), ¦ ¦полученной ¦ ¦модифицированный диоксид ¦ ¦нагревом ¦ ¦циркония (12), силициды, ¦ ¦электронным ¦ ¦алюминиды, смеси перечисленных ¦ ¦пучком ¦ ¦выше материалов (4) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦керамика (19) и стекла¦диэлектрические слои (15) ¦ ¦ ¦с малым коэффициентом ¦ ¦ ¦ ¦линейного расширения ¦ ¦ ¦ ¦(14) ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦коррозионно-стойкие ¦MCrAlX (5), модифицированный ¦ ¦ ¦стали (7) ¦диоксид циркония (12), смеси ¦ ¦ ¦ ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦ ¦(4) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦углерод-углерод, ¦силициды, карбиды, тугоплавкие ¦ ¦ ¦композиционные ¦металлы, смеси перечисленных ¦ ¦ ¦материалы с ¦выше материалов (4), ¦ ¦ ¦керамической или ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦нитрид бора ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦металлокерамический ¦карбиды, вольфрам, смеси ¦ ¦ ¦карбид вольфрама (16),¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦карбид кремния (18) ¦(4), диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦молибден и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦бериллий и его сплавы ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦ ¦бориды, бериллий ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦материалы окон ¦диэлектрические слои (15) ¦ ¦ ¦датчиков (9) ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦титановые сплавы (13) ¦бориды, нитриды ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦2.2. Ионно- ¦керамика (19) и стекла¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ассистированное ¦с малым коэффициентом ¦алмазоподобный углерод (17) ¦ ¦физическое ¦линейного расширения ¦ ¦ ¦осаждение из ¦(14) ¦ ¦ ¦паровой фазы, ¦ ¦ ¦ ¦полученной ¦углерод-углерод, ¦диэлектрические слои (15) ¦ ¦резистивным ¦композиционные ¦ ¦ ¦нагревом (ионное ¦материалы с ¦ ¦ ¦осаждение) ¦керамической или ¦ ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦металлокерамический ¦диэлектрические слои (15) ¦ ¦ ¦карбид вольфрама (16),¦ ¦ ¦ ¦карбид кремния (18) ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦молибден и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦бериллий и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦материалы окон ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦датчиков (9) ¦алмазоподобный углерод (17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦2.3. Физическое ¦керамика (19) и стекла¦силициды, диэлектрические слои ¦ ¦осаждение из ¦с малым коэффициентом ¦(15), алмазоподобный углерод ¦ ¦паровой фазы, ¦линейного расширения ¦(17) ¦ ¦полученной ¦(14) ¦ ¦ ¦лазерным ¦ ¦ ¦ ¦нагревом ¦ ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦углерод-углерод, ¦диэлектрические слои (15) ¦ ¦ ¦композиционные ¦ ¦ ¦ ¦материалы с ¦ ¦ ¦ ¦керамической или ¦ ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦металлокерамический ¦диэлектрические слои (15) ¦ ¦ ¦карбид вольфрама (16),¦ ¦ ¦ ¦карбид кремния (18) ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦молибден и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦бериллий и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦материалы окон ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦датчиков (9) ¦алмазоподобный углерод (17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦2.4. Физическое ¦суперсплавы ¦сплавы на основе силицидов, ¦ ¦осаждение из ¦ ¦сплавы на основе алюминидов ¦ ¦паровой фазы, ¦ ¦(2), MCrAlX (5) ¦ ¦полученной ¦ ¦ ¦ ¦катодно-дуговым ¦ ¦ ¦ ¦разрядом ¦ ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦полимеры (11) и ¦бориды, карбиды, нитриды, ¦ ¦ ¦композиционные ¦алмазоподобный углерод (17) ¦ ¦ ¦материалы с ¦ ¦ ¦ ¦органической матрицей ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦3. Твердофазное ¦углерод-углерод, ¦силициды, карбиды, смеси ¦ ¦диффузионное ¦композиционные ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦насыщение (10) ¦материалы с ¦(4) ¦ ¦ ¦керамической или ¦ ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦титановые сплавы (13) ¦силициды, алюминиды, сплавы на ¦ ¦ ¦ ¦основе алюминидов (2) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦тугоплавкие металлы и ¦силициды, оксиды ¦ ¦ ¦сплавы (8) ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦4. Плазменное ¦суперсплавы ¦MCrAlX (5), модифицированный ¦ ¦напыление ¦ ¦диоксид циркония (12), смеси ¦ ¦ ¦ ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦ ¦(4), истираемый никель- ¦ ¦ ¦ ¦графитовый материал, истираемый ¦ ¦ ¦ ¦никель-хром-алюминиевый сплав, ¦ ¦ ¦ ¦истираемый алюминиево- ¦ ¦ ¦ ¦кремниевый сплав, содержащий ¦ ¦ ¦ ¦полиэфир, сплавы на основе ¦ ¦ ¦ ¦алюминидов (2) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦алюминиевые сплавы (6)¦MCrAlX (5), модифицированный ¦ ¦ ¦ ¦диоксид циркония (12), ¦ ¦ ¦ ¦силициды, смеси перечисленных ¦ ¦ ¦ ¦выше материалов (4) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦тугоплавкие металлы и ¦алюминиды, силициды, карбиды ¦ ¦ ¦сплавы (8) ¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦коррозионно-стойкие ¦MCrAlX (5), модифицированный ¦ ¦ ¦стали (7) ¦диоксид циркония (12), смеси ¦ ¦ ¦ ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦ ¦(4) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦титановые сплавы (13) ¦карбиды, алюминиды, силициды, ¦ ¦ ¦ ¦сплавы на основе алюминидов ¦ ¦ ¦ ¦(2), истираемый никель- ¦ ¦ ¦ ¦графитовый материал, истираемый ¦ ¦ ¦ ¦никель-хром-алюминиевый сплав, ¦ ¦ ¦ ¦истираемый алюминиево- ¦ ¦ ¦ ¦кремниевый сплав, содержащий ¦ ¦ ¦ ¦полиэфир ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦5. Нанесение ¦тугоплавкие металлы и ¦оплавленные силициды, ¦ ¦шликера ¦сплавы (8) ¦оплавленные алюминиды (кроме ¦ ¦ ¦ ¦резистивных нагревательных ¦ ¦ ¦ ¦элементов) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦углерод-углерод, ¦силициды, карбиды, смеси ¦ ¦ ¦композиционные ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦материалы с ¦(4) ¦ ¦ ¦керамической или ¦ ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦ ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦6. Осаждение ¦суперсплавы ¦сплавы на основе силицидов, ¦ ¦распылением ¦ ¦сплавы на основе алюминидов ¦ ¦ ¦ ¦(2), алюминиды, ¦ ¦ ¦ ¦модифицированные благородным ¦ ¦ ¦ ¦металлом (3), MCrAlX (5), ¦ ¦ ¦ ¦модифицированный диоксид ¦ ¦ ¦ ¦циркония (12), платина, смеси ¦ ¦ ¦ ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦ ¦(4) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦керамика (19) и стекла¦силициды, платина, смеси ¦ ¦ ¦с малым коэффициентом ¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦линейного расширения ¦(4), диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦(14) ¦алмазоподобный углерод (17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦титановые сплавы (13) ¦бориды, нитриды, оксиды, ¦ ¦ ¦ ¦силициды, алюминиды, сплавы на ¦ ¦ ¦ ¦основе алюминидов (2), карбиды ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦углерод-углерод, ¦силициды, карбиды, тугоплавкие ¦ ¦ ¦композиционные ¦металлы, смеси перечисленных ¦ ¦ ¦материалы с ¦выше материалов (4), ¦ ¦ ¦керамической или ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦металлической матрицей¦нитрид бора ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦металлокерамический ¦карбиды, вольфрам, смеси ¦ ¦ ¦карбид вольфрама (16),¦перечисленных выше материалов ¦ ¦ ¦карбид кремния (18) ¦(4), диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦ ¦нитрид бора ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦молибден и его сплавы ¦диэлектрические слои (15) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦бериллий и его сплавы ¦бориды, диэлектрические слои ¦ ¦ ¦ ¦(15), бериллий ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦материалы окон ¦диэлектрические слои (15), ¦ ¦ ¦датчиков (9) ¦алмазоподобный углерод (17) ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦тугоплавкие металлы и ¦алюминиды, силициды, оксиды, ¦ ¦ ¦сплавы (8) ¦карбиды ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦7. Ионная ¦высокотемпературные ¦присадки хрома, тантала или ¦ ¦имплантация ¦подшипниковые стали ¦ниобия ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦титановые сплавы (13) ¦бориды, нитриды ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦бериллий и его сплавы ¦бориды ¦ +-----------------+----------------------+--------------------------------+ ¦ ¦металлокерамический ¦карбиды, нитриды ¦ ¦ ¦карбид вольфрама (16) ¦ ¦ ¦-----------------+----------------------+--------------------------------- Примечания к таблице: 1. Термин "процесс нанесения покрытия" включает как нанесение первоначального покрытия, так и ремонт, а также обновление существующих покрытий. 2. Покрытие сплавами на основе алюминида включает одно- или многоступенчатое нанесение покрытия, в котором элемент или элементы осаждаются до или в процессе нанесения алюминидного покрытия, даже если эти элементы наносятся с применением других процессов. Это, однако, не включает многократное использование одношагового процесса твердофазного диффузионного насыщения для получения легированных алюминидов. 3. Покрытие алюминидом, модифицированным благородным металлом, включает многошаговое нанесение покрытия, в котором слои благородного металла или благородных металлов наносятся каким-либо другим процессом до нанесения алюминидного покрытия. 4. Термин "смеси" означает материалы, полученные пропиткой, материалы с изменяющимся по объему химическим составом, материалы, полученные совместным осаждением, в том числе слоистые; при этом смеси получаются в одном или нескольких процессах нанесения покрытий, описанных в таблице. 5. MCrAlX соответствует сплаву покрытия, где М обозначает кобальт, железо, никель или их комбинацию, Х - гафний, иттрий, кремний, тантал в любом количестве или другие специально внесенные добавки с их содержанием более 0,01% (по весу) в различных пропорциях и комбинациях, кроме: а) CoCrAlY-покрытий, содержащих менее 22% (по весу) хрома, менее 7% (по весу) алюминия и менее 2% (по весу) иттрия; б) CoCrAlY-покрытий, содержащих 22 - 24% (по весу) хрома, 10 - 12% (по весу) алюминия и 0,5 - 0,7% (по весу) иттрия; в) NiCrAlY-покрытий, содержащих 21 - 23% (по весу) хрома, 10 - 12% (по весу) алюминия и 0,9 - 1,1% (по весу) иттрия. 6. Термин "алюминиевые сплавы" относится к сплавам с прочностью при растяжении 190 МПа или выше при температуре 293 К (20 °C). 7. Термин "коррозионно-стойкая сталь" означает сталь из серии AISI-300 (AISI - American Iron and Steel Institute - Американский институт железа и стали) или сталь соответствующего национального стандарта. 8. Тугоплавкие металлы и сплавы включают следующие металлы и их сплавы: ниобий, молибден, вольфрам и тантал. 9. Материалами окон датчиков являются: оксид алюминия (поликристаллический), кремний, германий, сульфид цинка, селенид цинка, арсенид галлия, алмаз, фосфид галлия, сапфир, а для окон датчиков диаметром более 40 мм - фтористый цирконий и фтористый гафний. 10. Технология одношагового процесса твердофазного диффузионного насыщения сплошных аэродинамических поверхностей не контролируется по категории 2. 11. Полимеры включают полиимиды, полиэфиры, полисульфиды, поликарбонаты и полиуретаны. 12. Термин "модифицированный оксид циркония" означает оксид циркония с добавками оксидов других металлов (таких как оксиды кальция, магния, иттрия, гафния, редкоземельных металлов) в целях стабилизации определенных кристаллографических фаз и фазовых составов. Покрытия - температурные барьеры из оксида циркония, модифицированные оксидом кальция или магния методом смешения или сплавления, не контролируются. 13. Титановые сплавы - только сплавы для аэрокосмического применения с прочностью на растяжение 900 МПа или выше при температуре 293 К (20 °C). 14. Стекла с малым коэффициентом линейного расширения включают стекла,
имеющие измеренный при температуре 293 К (20 °C) коэффициент линейного
-7 -1
расширения 10 K или менее.
15. Диэлектрический слой - покрытие, состоящее из нескольких диэлектрических материалов-слоев, в котором интерференционные свойства структуры, составленной из материалов с различными показателями отражения, используются для отражения, пропускания или поглощения в различных диапазонах длин волн. "Диэлектрический слой" - понятие, относящееся к структурам, состоящим из более чем четырех слоев диэлектрика или композиционных слоев в структуре диэлектрик - металл. 16. Металлокерамический карбид вольфрама не включает следующие твердые сплавы, применяемые для режущего инструмента и инструмента для обработки металлов давлением: карбид вольфрама - (кобальт, никель), карбид титана - (кобальт, никель), карбид хрома - (никель, хром) и карбид хрома - никель. 17. Не контролируются технологии, специально разработанные для нанесения алмазоподобного углерода на любые из следующих изделий, произведенных из сплавов, содержащих менее 5% бериллия: дисководы (накопители на магнитных дисках) и головки, оборудование для производства расходных материалов, клапаны для вентилей, диффузоры громкоговорителей, детали автомобильных двигателей, режущие инструменты, вырубные штампы и пресс-формы для штамповки, оргтехника, микрофоны, медицинские приборы или формы для литья или формования пластмассы. 18. Карбид кремния не включает материалы, применяемые для режущего инструмента и инструмента для обработки металлов давлением. 19. "Керамические подложки" в том смысле, в котором этот термин применяется в настоящем пункте, не включают в себя керамические материалы, содержащие 5% (по весу) или более связующих как отдельных компонентов, так и в сочетании с другими компонентами. Технические примечания к таблице: Процессы, указанные в колонке "Процесс нанесения покрытия", определяются следующим образом: 1. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) - процесс нанесения внешнего покрытия или покрытия с модификацией поверхности подложки, когда металл, сплав, композиционный материал, диэлектрик или керамика осаждаются на нагретую подложку. Газообразные реагенты разлагаются или соединяются вблизи подложки или на самой подложке, в результате чего на ней осаждается требуемый материал в форме химического элемента, сплава или соединения. Энергия для указанных химических реакций может быть обеспечена теплом подложки, плазмой тлеющего разряда или лучом лазера. Особые примечания: а) CVD включает следующие процессы: осаждение в направленном газовом потоке без непосредственного контакта засыпки с подложкой, CVD с пульсирующим режимом, термическое осаждение с управляемым образованием центров кристаллизации (CNTD), CVD с применением плазменного разряда, ускоряющего процесс; б) засыпка означает погружение подложки в порошковую смесь; в) газообразные реагенты, используемые в процессе без непосредственного контакта засыпки с подложкой, производятся с применением тех же основных реакций и параметров, что и при твердофазном диффузионном насыщении. 2. Физическое осаждение из паровой фазы, получаемой нагревом, - процесс нанесения внешнего покрытия в вакууме при давлении ниже 0,1 Па с использованием какого-либо источника тепловой энергии для испарения материала покрытия. Процесс приводит к конденсации или осаждению пара на соответствующим образом установленную подложку. Обычной модификацией процесса является напуск газа в вакуумную камеру в целях синтеза химического соединения в покрытии. Использование ионного или электронного пучка либо плазмы для активизации нанесения покрытия или участия в этом процессе является также обычной модификацией этого метода. Применение контрольно-измерительных устройств для измерения в технологическом процессе оптических характеристик и толщины покрытия может быть особенностью этих процессов. Особенности конкретных процессов физического осаждения из паровой фазы, получаемой нагревом, состоят в следующем: а) физическое осаждение из паровой фазы, полученной нагревом электронным пучком, использует пучок электронов для нагревания и испарения материала, образующего покрытие; б) ионно-ассистированное физическое осаждение из паровой фазы, полученной резистивным нагревом, использует резистивные нагреватели в сочетании с падающим ионным пучком (пучками) в целях получения контролируемого и однородного потока пара материала покрытия; в) при испарении лазером используется импульсный или непрерывный лазерный луч; г) в процессе катодного дугового напыления используется расходный катод, из материала которого образуется покрытие и который имеет дуговой разряд, инициирующийся на поверхности катода после кратковременного контакта с пусковым устройством. Контролируемое движение дуги приводит к эрозии поверхности катода и образованию высокоионизованной плазмы. Анод может быть коническим и располагаться по периферии катода через изолятор, или сама камера может играть роль анода. Для реализации процесса нанесения покрытия вне прямой видимости подается электрическое смещение на подложку. Особое примечание. Описанный в подпункте "г" процесс не относится к нанесению покрытий неуправляемой катодной дугой и без подачи электрического смещения на подложку; д) ионное осаждение - специальная модификация процесса физического осаждения из паровой фазы, получаемой нагревом, в котором плазменный или ионный источник используется для ионизации материала наносимых покрытий, а отрицательное смещение, приложенное к подложке, способствует экстракции необходимых ионов из плазмы. Введение активных реагентов, испарение твердых материалов в камере, а также использование контрольно-измерительных устройств, обеспечивающих измерение (в процессе нанесения покрытий) оптических характеристик и толщины покрытий, - обычные модификации этого процесса. 3. Твердофазное диффузионное насыщение - процесс, модифицирующий поверхностный слой, или процесс нанесения внешнего покрытия, при которых изделие погружено в порошковую смесь (засыпку), состоящую из: а) порошков металлов, подлежащих нанесению на поверхность изделия (обычно алюминий, хром, кремний или их комбинации); б) активатора (в большинстве случаев галоидная соль); и в) инертного порошка, чаще всего оксида алюминия. Изделие и порошковая смесь находятся в муфеле с температурой от 1030 К (757 °C) до 1375 К (1102 °C) в течение достаточно продолжительного времени для нанесения покрытия. 4. Плазменное напыление - процесс нанесения внешнего покрытия, при котором в горелку, образующую плазму и управляющую ею, подается порошок или проволока материала покрытия, который при этом плавится и несется на подложку, где формируется покрытие. Плазменное напыление может проводиться либо в режиме низкого давления, либо в режиме высокой скорости. Особые примечания: а) низкое давление означает давление ниже атмосферного; б) высокая скорость означает, что скорость потока на срезе сопла горелки, приведенная к температуре 293 К (20 °C) и давлению 0,1 МПа, превышает 750 м/с. 5. Нанесение шликера - процесс, модифицирующий поверхностный слой, или процесс нанесения внешнего покрытия, в которых металлический или керамический порошок с органической связкой, суспендированный в жидкости, наносится на подложку посредством напыления, погружения или окраски с последующими сушкой при комнатной или повышенной температуре и термообработкой для получения необходимого покрытия. 6. Осаждение распылением - процесс нанесения внешнего покрытия, основанный на передаче импульса, когда положительные ионы ускоряются в электрическом поле в направлении к поверхности мишени (материала покрытия). Кинетическая энергия падающих на мишень ионов достаточна для выбивания атомов с поверхности мишени, которые затем осаждаются на соответствующим образом установленную подложку. Особые примечания: Страницы: | Стр. 1 | Стр. 2 | Стр. 3 | Стр. 4 | Стр. 5 | Стр. 6 | Стр. 7 | Стр. 8 | Стр. 9 | Стр. 10 | Стр. 11 | Стр. 12 | Стр. 13 | Стр. 14 | Стр. 15 | Стр. 16 | Стр. 17 | Стр. 18 | Стр. 19 | |
Новости законодательства
Новости Спецпроекта "Тюрьма"
Новости сайта
Новости Беларуси
Полезные ресурсы
Счетчики
|
